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* * 感光胶材料培训(1) S = R H S = R I.t ? ? ? ? ? ? ? 入射光 掩模板 负性胶 ITO膜 玻璃基板 负性胶 ITO膜 玻璃基板 ? ? ? ? ? ? ? 入射光 掩模板 正性胶 ITO膜 玻璃基板 正性胶 ITO膜 玻璃基板 配胶 前烘 曝光 显影 涂胶 刻蚀 后烘 去胶 感光胶（光刻胶） 1.感光胶的生产 在工艺中光刻胶的使用操作工序如图所示： ?  2.感光胶 组成 ？ 感光剂是一种特别敏感的高分子化合物，当它受到适当波长光照射时，能吸收一定的波长的光能量，使之发生交联、聚合或分解等光化学反应，使光刻胶改变其性能。 ? ? ? ? 感光度是一个表征光刻胶对光敏感的性能指标。 ? 配胶 前烘 曝光 显影 涂胶 刻蚀 后烘 去胶 三部分，感光剂(光致抗蚀剂)、增感剂和溶剂。 3.感光胶的分类 ※分为两大类 ？ 分类的依据 ？ 如下图： ??  入射光 掩模板 负性胶 ITO膜 玻璃基板 负性胶 ITO膜 玻璃基板 入射光 掩模板 正性胶 ITO膜 玻璃基板 正性胶 ITO膜 玻璃基板 →正性胶 →负性胶 光刻胶曝光前后溶解度特性的变化 →负性胶 在曝光前对某些有机溶剂(丙酮、丁酮、环已酮等)是可溶性的，曝光后发生光聚合反应，不溶于有机溶剂。 进行光刻时，在衬底表面将得到与光刻胶掩模版遮光图案完合相反的图形，故称之为负性胶。 主要由聚肉桂酸脂类、聚脂类和聚烃类(环化橡胶)等组成。 →正性胶 ？ 正性胶目胶主要由邻迭氮醌型化合物(感光性)、苯骈三氮唑(增感剂)和已二醇单已醚酸丁脂(溶剂)组成。 在曝光前对某此溶剂是不可溶的，而曝光后却变成了可溶的。 使用这种胶光刻时，能得到与光刻掩模版遮光图案相同的图形，故称为正性胶。 生产工位对感光胶有哪些要求 ？ →成膜性能好（流平性） →曝光时间短 →耐腐蚀 →不掉胶 →膜厚要易控制 →显影后线条要平滑 感光度 分辨率 抗蚀性 粘附能力 针孔密度 。 主要技术指标 ？ →感光度 ？ 感光度S用曝光时使光刻胶发生光化学反应所需的最小曝光量H的倒数来表示。 ?（R为比例常数） ?? 曝光量H 等于照射光的强度I与曝光时间t的乘积，故感光度S表示为： ?对于某固定光强的曝光机，光刻胶的感光度越高，则曝光时间越短； ? S = R H S = R I.t 感光度：光化学反应所需的曝光量 →分辨率 ？ 分辨率是表征光刻胶的光刻精度 与光刻胶本身有关，还与光刻工艺条件和操作因素有关 分辨率表示法 以每毫米最多可容纳的线条数来表示， 例：可分辨的线宽为W/2(线与线之间空白的宽度为W/2)，则分辨率为1/W(条线/毫米)。 例：若W=10um,则分辨率为100条线/毫米. →抗蚀性 ？ →粘附能力 粘附能力表示光刻胶与衬底之间的牢固程度，直接影响光刻后的精度 光刻胶的粘附力的影响因素 ？ ? 要求光刻胶对酸、碱化学腐蚀液具有良好的抗蚀能力，即能经受得住较长时间的酸碱腐蚀液的浸蚀。 与光刻胶的性质有关， 与ITO膜的性质及表面情况有关 平整、致密、清洁、干燥 工艺方面有影响吗 ？ →针孔密度 单位面积的光刻胶膜上针孔数目称为光刻胶的针孔密度，经腐蚀之后将在ITO层相应位置上形成针孔，直接影响光刻质量。 →粘度和固态含量、浓度 光刻胶的粘度、固含量与浓度直接影响胶的哪个应用性能？ 膜厚度 是怎样的关系 ？ ? 光刻胶的前烘条件和显影液配方 光刻胶浓度越大， 粘度就越大，在相同涂胶条件下，所得到的胶膜就越厚； 固态量高，胶液干燥后，在相同涂胶条件下，胶膜就厚 *