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工艺参数对离子束辅助沉积TiN薄膜性能的影响_李国明
DO I :10.16490/j .cnki .issn.1001 -3660.2008.06.018 66 TNi TNi 1 2 1 ,, (1., 430033;2. 16 1, 4 30033 ) [ ] 为进一步提高牙科材料的生物相容性、耐磨性和耐腐蚀性能, 将离子束辅助沉积制 TiN纳米薄膜技术引入到铁 铬钼牙科材料的研究中,在 Fe-Cr-Mo合金基体上制 了 TiN薄膜。测定了表面膜层的显微硬度, 在模拟口腔环境的溶液中, 采用电 化学方法, 对经不同工艺参数沉积 TNi薄膜的牙科用 Fe-Cr-Mo合金的耐蚀性进行测试, 并以未进行表面镀膜的 Fe-Cr-Mo合金为对 照。结果表明:经 TiN镀膜处理的 Fe-Cr-Mo软磁合金硬度明显增加, 在口腔环境中的耐腐蚀性较未经表面镀膜处理的有明显提高。 工艺参数不同,硬度增加的程度不同, 耐蚀性差别也较大, 当氮气流量为 1.5mL/min, 溅射时间为 4 h时,得到的膜厚为 2μm, 此时 TNi 膜硬度最高,在口腔溶液中耐腐蚀性最好。 [] 铁铬钼软磁合金;离子束辅助沉积;显微硬度;耐蚀性;TNi薄膜 [] TG174.45 [] A [] 100 1-3660 (2008)06-0066-03 E ectsoFimlFormingParameteronthePropertieso Ion-beamAidingDepositionTiNThinFilm 1 2 1 LIGuo-ming, SUNShi-yao, CHENXue-qun (1.MaterialsandChemistryDepartmentoScienceColleg,eNavalEngineeringUniversity, Wuhan430033, China; 2.No.161 HospitalothePLA.Wuhan430010, China) [Abstrac]t Tomiprovethebiocompatibilityandabrasionresistanceandcorrosionresistanceothedentistrymate- rial,stheion-beamassisteddeposition(IBAD)methodwasintroducedtothestudyonthedentistryFe-Cr-Moalloy.s ThethinTNi ilmwaspreparedonthesubstrateodentistryFe-Cr-MoalloysusingIBADmethod.Thehardnessothe ilmwasmeasured.Inthesmiulatedmouthsolution, thecorrosionresistanceothisilmwasexaminedintermsocorro- sionpotentia,lcorrosioncurrentdensity, polarizationresistanceanddynamicpolarizationcurve.sTheblankFe-Cr-Mo alloyssubstratewasusedascomparisongroup.TheresultsshowthatFe-Cr-MoalloyswithTNi imlhashigherhardness andbettercorrosionresistancethanthealloyswithoutIBADtreatmen.tTheTiN ilmhasdierenthardnessandcorrosion resistanceaccordingtodierentilm ormingparameter.sInIBADtreatmen,twhenthenitrogenluxrateis1.5ml/m
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