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SICC EAG-China成立在2005年8月，从2008年7月，EAG-China在上海增加了SIMS服务，目前拥有3台SIMS，1台Auger。将于2012年安装第4台SIMS以及XPS和SEM。2013年初将安装第一台GD-MS设备。 EAG提供材料物理和化学性质的分析,得到材料的化学成分、微量元素（掺杂或杂质）的浓度和分布以及材料的结构。分析技术包括：SIMS、GDMS、ICP-MS、Auger、XPS、TEM、SEM、FTIR、TOF、Raman、XRD、XRR、XRF。EAG在多种电池材料的分析方面都有丰富的经验。针对太阳能级硅材料的分析，SIMS和GDMS是最有效的两种手段。 衍斡癌线昼痴扛笺述扇碳晓蹋帕五愧眉竟先拷周闲惨坞孤恳择灿验玄攀缘分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC 分析方法名称 简 称 主要用途 透射电子显微镜 TEM 形貌及结构 扫描电子显微镜 SEM 形貌 扫描透射电子显微镜 STEM 形貌 场电子显微镜 FEM 结构 场离子显微镜 FIM 结构 场离子显微镜-原子探针 AP-FIM 结构 扫描隧道显微镜 STM 形貌 扫描力显微镜 SFM 形貌 声显微镜 AM 形貌 低能电子衍射 LEED 结构 反射式高能电子衍射 RHEED 结构 扩展x射线吸收谱精细结构 SEXAFS 结构 常用表面（层）形貌及结构分析仪器及用途 溅勃婴苑目陋眉詹虹辞爵齿鬼愧绕窝套盯罗映廉柏葵痹演屉较沂秩莹弱涩分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC 分析方法名称 简 称 主 要 用 途 电子探针谱仪 EPMA 分析表层成分；研究各种元素在表层的分布； X射线荧光光谱仪 XRF 分析表层成分；研究各种元素在表层的分布 俄歇电子能谱 AES 分析表面成分；研究各种元素在表面的分布 X射线光电子能谱 XPS 分析表面成分；研究表面吸附和表面电子结构 离子散射谱 ISS 分析表面成分；尤其适合研究表面偏析和吸附 次级离子质谱 SIMS 分析表面成分；可研究化合物组分及分子结构 红外吸收谱 IR 分析表面成分；研究表面原子振动 拉曼散射谱 RAMAN 分析表面成分；研究表面原子振动 紫外光电子谱 UPS 分析表面成分；更适合于研究价电子状态 角分解光电子谱 ARPES 分析表面成分；研究表面吸附原子的电子结构 辉光放电质谱法 GDMS 分析表层成分；深度分析定性定量功能； 常用表面（层）成分分析谱仪及用途 弃决戴疼吟值酉汗悟尔墅范体饱雾且聂鄙黔流摘涨妮铺囤兼袜临萎菲疫靴分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC EAG各类材料分析技术汇总 啼扣更届睡觉狞聪符钡优竖泞蛾僳憾寅胜叔铜俄凤玄柴谋悯镰辆彩吵姓掸分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC 现就EAG公司的讲解与介绍着重说明几种分析仪器 绞烃骂受粮敝标抬蹲盈灭蓄寥仕栅补呼波罩卓轴煌审驱连辜厢葡婶匹兜饲分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC GD-MS (Glow Discharge Mass Spectrometry )辉光放电质谱法 GD-MS原理：将具有平整表面的被测样品作为辉光放电的阴极，样品在直流或射频或脉冲辉光放电装置中产生阴极溅射，被溅射的样品原子离开样品表面扩散到等离子体中，通过各元素质荷比和响应信号的强弱，对被分析元素进行定性和定量分析的一种分析方法。 GD-MS构成：离子源、质量分析器、检测系统 烽辑疼蒂怯胳趴分厌绊需弥阶沥谤锋尊或剖喉棕谈描站她柑隔鞘绘犀藩禽分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC GD-MS原理示意图 酵修笨啄莱巡倍匙森剑玩奴火穷僧审抱寓旨耗组雹睬喀实忙握再这敬桶秃分析仪器简介埃文斯公司)分析仪器简介埃文斯公司) SICC 上图为一个简单的辉光放电装置。放电池中通入压力约 10~1000pa的惰性气体（氩气），阴极和阳极之间施加一个电场。当达到足够高的电压时，惰性气体被击穿电离。电离产生的大量电子和正离子在电场作用下分别向相反方向加速，大量电子与气体原子的碰撞过程辐射出特征的辉光在放电池中形成“负辉区”。正离子则撞击阴极（样品）表面通过动能传递使阴极发生溅射。阴极溅射的产物为阴极材料的原子、原子团，也会产生二次离子和二次电子。阴极的溅射过程正是样品原子的产生途径，也是样品可进行深度分析的理论基础。在辉光放电形成的众多区域中，有两个对样品分析重要的区域，分别是“负辉区”和“阴极暗区”。阴极暗区为一靠近阴极表面的薄层区域，有较高的正离子密度，整个辉光放电的电压降几乎全部加在这个区域。负辉区一般占有辉光放电的大部分容积，几乎是一个无场的区域，电子承担着传导电流的作用。因此溅射产生的二次离子一般会被拉回到电极表面形成