N_2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究_苏宏波.pdfVIP

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2017-05-29 发布于浙江
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N_2O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的光学性能研究_苏宏波

26 　7 　　　 Vol.26, No.7 2006 7 　　　　　　　　　　　　　ACTA OPTICA SINICA　　　　　　　　　　　　 July, 2006 :0253-2239(2006)07-1112-3 N O为氧源金属有机化学气相沉积生长ZnO薄膜的 2 光学性能研究* ** 苏宏波　戴江南　王　立　蒲　勇　方文卿　江风益 (, 330047) :　(AP-MOCVD)、, H O N O , DEZn 2 2 Zn , N , -c Al O ZnO 。 X (DCXRD) 2 2 3 ZnO。 , ZnO (10 - 12)ω 350″, ZnO ; 10 K , N O ZnO H O 2 2 ZnO , 3. 331 eV (T ES)。 , N O ZnO。 2 :　;;;;ZnO;N O 2 + :TN304.2 2　　　:A Optical Properties of ZnO Thin Film Grown by Atmospheric Pressure-Metal Organic Chemical Vapor eposition Using N O as Oxygen Precursor 2 Su Hongbo　Dai Jiangnan　Wang Li　Pu Yong　Fang Wenqing　Jiang Fengyi (Education M inistry Engineering R esearch Cen ter f or Lumin escen ce M at erials an d Devices, Nanchang University, N an chang 330047) Abstract:　Hig-h quality ZnO films were grown on c-Al O substrate by atmospheri pressur-e metal organi hemi al 2 3 vapor deposition te hnique, using a method of three-step growth. DEZn and H O were used as the Zn and O 2 pre ursors in both the low and high temperature N b