Roll-to-Roll磁控溅射镀膜系统设计论文.docVIP

目 录 中文摘要 2 英文摘要 5 1 绪论 6 1．1 真空卷绕镀膜技术及设备的现状与发展 6 1.1.1真空卷绕镀膜技术的应用领域 6 2磁控溅射原理及溅射沉积工艺参数 7 2.1 磁控溅射原理与磁控溅射物理过程 7 2.2 磁控溅射的工艺参数 8 2.2.1 磁控溅射的功率 8 2.2.2 磁场强度 8 2.2.3 溅射气压 8 2.2.4 基片的温度 9 3 Roll-to-roll磁控溅射镀膜系统 9 3.1 Roll-to-roll磁控溅射镀膜系统的主要组成和工作过程 9 3.1.1 Roll-to-Roll磁控溅射系统的组要组成 9 3.2平面磁控溅射靶的类型选择 10 4 磁控溅射镀膜真空室的设计要求与原则 11 4.1设计参数 11 4.2磁控溅射镀膜真空室的主要设计原则 11 4.3磁控溅射镀膜室对抽气系统的要求 11 5 Roll-to-roll磁控溅射真空镀膜室主要部分的设计与计算 12 5.1 真空系统的设计与计算 12 5.1.1真空室壳体的类型选择 12 5.1.2 真空室壳体的计算 12 5.1.3抽气系统的设计与计算 12 5.1.4主泵的选择 13 5.1.5计算扩散泵与真空室排气口管路的流导，验证选K-200型扩散泵是否合适 14 5.1.6前级泵的选择 15 5.1.7抽气时间的计算 16 5.2卷绕系统主轴的ANSYS分析 17 5.3 真空室的气流速度和压强的FLUENT分析 21 5.3.1 气体压强分析 22 5.3.2 气体的速度分析 24 5.4 Roll-to-roll磁控溅射系统设计 27 致谢 29 参考文献 30 摘要：随着柔性基体材料在太阳能电池和柔性显示屏中的运用，在柔性基体上镀膜的技术越来越受到人们的关注，并且是现代科技发展中的一项关键技术。磁控溅射镀膜技术是真空镀膜中运用广泛，不仅能够在各种面积的基体上镀膜，而且还能还能够得到镀膜厚度均匀，性能稳定的薄膜。而R-to-R磁控溅射镀膜技术不仅具有普通磁控溅射镀膜技术的优点，它还具有能够在柔性基体上镀膜的特点，解决了在柔性基体上连续镀膜难题。文中在对平面磁控溅射阴极的工作原理分析的基础上，阐述了磁控溅射镀膜的主要工艺流程和影响参数，并介绍了R-to-R磁控溅射镀膜系统的主要组成和工作原理，从而对卷对卷磁控溅射镀膜系统可行性的分析。文中主要对真空室、抽气系统、传动系统、冷却系统进行设计以及对主轴进行了应力和位移的ANSYS的分析，对真空室的气流进行压强和气体流速的FLUEND分析。该抽气系统采用旋片泵做前级泵，扩散泵做主泵，传动系统用带传动和齿轮传动的结合方式。 关键词：卷对卷、磁控溅射、柔性基体、矩形靶材、镀膜 Abstract: with the flexible base material in solar cell and the application of flexible displays, on the flexible substrate coating technology more and more get the attention of people, and is a key technology in the development of modern science and technology. Magnetron sputtering deposition technology is widely used in vacuum coating, can in all area of the substrate coating not only, but also can be uniform coating thickness, stable performance of the film. And Roll-to-Roll magnetron sputtering deposition technology not only possesses the advantages of ordinary magnetron sputtering deposition technology, it also has the characteristics of the can on the flexible substrate coating, solved the difficult problem on the flexible substrate for coating. On planar magnetron sputtering cathode in this paper based on the analysis of working principle, elab