瓷砖抛光过程建模与仿真.pdfVIP

DOI：10．3969／j．issn．1009-9492．2015．10．015 瓷砖抛光过程建模与仿真 朱成就 (广东工业大学机电工程学院，广东广州 510006) 摘要：瓷砖的抛磨影响因素众多，实际磨削加工时容易出现漏抛、返抛现象。对陶瓷抛光机磨头进行运动学分析，并基于不同 粒度号的磨粒在一定压力下的加工深度模型，探讨抛光机磨头转速、横梁摆动频率、传送速度对瓷砖抛光加工表面均匀性的影 响，然后结合磨削机理使用MATLAB~ 对陶瓷抛光过程进行仿真。最后使用多组不同的运动参数进行模拟试验 ，分析不同条 件下抛光的均匀性影响。 关键词：陶瓷抛光机；均匀性；运动参数；仿真 中图分类号：THI6 文献标识码：A 文章编号：1009—9492(2015)10—0061—05 TheModelingandSimulationStudyuponCeramicTilePolishingProcess ZHUChengiiu (CollegeofMechanicalandElectronicEngineering，GuangdongUniversityofTechnology，Guangzhou510006，China) Abstract：Manyfactorsaffectthepolishingofceramictile．Intheactualgrindingprocess，itiseasytOoccurthephenomenonofwithout polishingincertainareasorpolishingagain．Thispapermainlyanalyzeskinematicsofpolishingheadinpolisherandbasedonthemodelof grindingdepthundercertainpressurewithdifferentgrainsize，studiestheinfluenceofrotationalspeedoftheabrasivedisk，frequencyof thelateral oscillationforwardandspeedofthepolishinglineonhomogeneityofpolishingsurface，thencombinedwiththegrinding mechanism，usingMATLAB softwaretosimulatethepolished ceramicprocessmodeling．Finally，usingmultiplegroupsofdifferent praameterstosimulate，analyzedtheeffectsofhteuniformityindifferentconditionsofpolishing． Keywords： polisher；uniformity；movementparameter；simulation 0引言 磨削量的分布规律。 为达到表面平整、光亮、色泽鲜明等生产要 但是这些模型都是以抛光机平面运动轨迹为 求，瓷砖刮平工序后需要进入抛光机抛磨。在实 研究，忽略磨粒垂直方向的磨削状况，并没有反 际生产中，抛光工艺复杂 ，影响抛光质量的因素 映出真实的磨削情况 ，而且大多数都是针对同一 众多，其中抛光机的运动参数对抛光制品表面的 规格参数的磨粒进行研究，没有结合抛光机上所 均匀性影响规律是国内外研究的热点问题 。Sousa 有磨粒粒度号对瓷砖加工的相互作用。针对这些 等[11建立了磨粒在抛磨过程的运动学方程，分析运 问题，本文在考虑不同粒度号磨粒的垂直磨削量 动参数对加工过程 的影响。Sousa和Aurieht通过 对抛光均匀性影响的基础上，对抛光运动进行仿 建立瓷砖表面抛磨的时间模型，分析瓷砖横向与