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刚性模具纳米热压印直接成型技术研究与应用
模具工业 2010年第36卷第9期 1 ;、 i综 述 i 0 岍 七 写 i、 刚性模具纳米热压印直接成型技术研究与应用 刘 伟 ,王伊卿 2,甘代伟 (1.陕西国防工业职业技术学院,陕西 西安 710302; 2.西安交通大学 制造系统国家重点实验室,陕西 西安 7119049) 摘要:介绍了刚性模具纳米热压印直接成型技术与研究现状,阐述了纳米热压印工艺的系统组成、模具 制造方法、压印材料选择及关键工艺过程,分析 了影响压印精度的主要原因,探讨 了刚性模具纳米热压 印直接成型过程中,多层图形压印的对准问题,介绍了3种改善对准精度的方法。 关键词 :纳米压印;刚性模具;成型 中图分类号:TG241;TQ320.661 文献标识码 :A 文章编号:1001—2168(2010)09—0001—05 Research statusand application ofhotnano—imprintlithography forming techniquewith rigid die UU Wei,WANG Yi-qing,GAN Dai-wei (1.ShaanxiInstituteofTechnology,Xi’an,Shaanxi710302,China;2.State KeyLaboratoryfor ManufacturingSystemsEngineering,Xi’anJiaotong University,Xi’an,Shaanxi710049,China) Abstract:Presentation wasmade on hotnano—imprint lithography technique with rigid die and its research sattus,which involves the system configurafion, die manufacturing mehtod,materiales— lecfionand key Process.nle main causesofinfluencing theimprinting precision were analyzed and the multilayer alignment problem of patterns was investigated.m ee schemeswere propoesd to improve the alignmentprecision. Keywords:nano-imprintlithography (N );rigiddie;fom~ing 1 引 言 RVMA薄膜上压出了直径 25m1,节距 120Din的点 1993年美国哈佛大学教授WHrIESIDES提出微 阵列 乜】o纳米压印光刻技术是一种全新的纳米图形 接触印刷法 H 其主要思想是使用具有纳米图案的 复制方法,它不使用光线或者辐射使光刻胶感光成 弹性印章将 自组织单分子膜印到基片上。微接触印 型,而是直接在硅衬底或者其他衬底上利用光刻胶 刷适用于微米至纳米量级精细图案的印刷。弹性印 塑性变形以及保形原理构造纳米级别的图形。纳米 章是软的,使得在大面积基片上制作纳米图案时, 压印光刻包括制模、压印、脱模以及刻蚀和图像转移 基片图案各部位的均匀性和重复性将出现较大的 过程,这种纳米成像技术真正实现了纳米级别的图 误差,难以大面积复制特征尺寸小于 50nlTI的图 形印制,目前该技术分辨率达5nln.以内。纳米压印 案。 技术主要包括热压印 (m )、紫外压印(I
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