低温退火对多晶硅片强度的影响讲义.pptVIP

下载本文档

4
0
约小于1千字
约 16页
2017-04-21 发布于湖北
举报
版权申诉

低温退火对多晶硅片强度的影响讲义.ppt

1、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

低温退火对多晶硅片强度的影响 ;1、引言;2、实验方法;强度测试仪;3、实验结果;相比于裸片，退火后硅片的变形量明显增大；与前面不同，退火制绒片的变形量也明显增加，且分布相对集中。;4、分析与推论;;退火后，间隙铁含量有少量减少，;950度;快冷情况下，由于时间短暂，铁还来不及长距离扩散，铁沉淀形核在较低的温度，过饱和度较大，所以形成了高密度但体积较小的铁沉淀，主要在晶界上偏聚。推测铁沉淀在晶界上的偏聚，在一定程度上增强了晶界对裂纹的阻碍，从而增强了硅片的强度和弯曲度;;[[7] V.A. Popovich, A. Yunus, et al. 25th EPSEC, Valencia, 2010, pp.2631-2636 10] V.A. Popovich, J.M. Westra et al., PVSC, Seattle, 2011, pp.1668-1673;4、分析与推论;4、结论;Thank you!