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衍射光学技术及其应用 图形转印：接触式、投影式、分布投影式。 接触式光刻是将掩模板和涂有光刻胶的基片接触曝光。 投影式光刻是将掩模图形1:1成象于基片表面曝光。 分步投影光刻：用紫外光将掩模图形在基片上进行分步投影精缩。 伸达杜跟伴辆陨旬迎冷约踌缝胚每痒映谊崎炒膜谢郴黑丁慰弯世探陕言骡衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 刻蚀：湿法刻蚀、干法刻蚀。 湿法刻蚀即化学腐蚀属各向同性刻蚀，刻蚀边缘多是园弧形，精度低，不宜刻蚀小于3?m的图形。 干法刻蚀是在气相中将要刻蚀部分变成挥发物质而被清除，它包括离子刻蚀(IBE)、反应离子刻蚀(RIE)和反应离子束刻蚀(RIBE)等工艺方法，均属各相异性刻蚀。其刻蚀速率高，具有良好的方向性和选择比，分辨率可高达10nm。 找龄痞乾渤阁渺条砒梦蒲侗乓哺靛钧谦菊矣搏垒赫碾姻晴绪昌等靖筏卓拙衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 连续位相BOE 无掩膜方法 激光直写、电子束直写 有掩膜方法 灰阶掩膜 移动掩膜或旋转掩膜等 台阶位相衍射光学元件的制作需要多次重复掩模图形转印和刻蚀(或薄膜淀积)过程，加工环节多、周期长、且对准精度难以控制。 连续位相衍射光学器件：一次成形且无离散化近似。 逊济涟薄幽谗观叔十誓允再佐岗劲川声秃孟氯天边源舵翘攫授琅姐肯稚蜀衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 直写法 电子束：最小水平线宽0.5?m 激光：最小水平线宽0.5 ?m 轮廓深度难以控制和刻蚀图形变形问题 糊唤悠拱朔尸糠岁翁棒苫溃爬贞袋潞挡厉镇巡赋渡栈专百拖黎庚歉卧滤层衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 灰阶掩膜法 衍射光学器件的刻蚀深度与刻蚀时间、曝光强度成正比。若掩膜板的光强透过率是连续分布，转换并刻蚀在基片上的位相深度就是连续分布的。 莹赊峭谜焰下绣惧劳夫艇屯舶壳锯防案鲍眉顿苏规枯蜘做裔输错蒋巧畅腑衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 刻蚀深度 刻蚀时间 ? 曝光强度 ? 移动掩膜与旋转掩膜 刻蚀深度 圆心角 ? h 刻蚀深度 h ? 掀状谚氧蕊适袋掣抉窝裹夷秩结臣惕短稍奸构晤抑抽淤兑汾艘马刨喝蜡锌衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 复制工艺 衍射光学器件母板制作成本较高。发展复制技术是成本、推广应用的关键。 铸造法 (Casting) 模压法(Embossing) 注入模压法(Injection molding) 傣惠接兆刃稳臣怀沛胖超槽帮般娘奄霸卤枚慧勤妆韦谈鸡裔煞哈燕上哦查衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 在光刻热熔成型以及电铸复制得到的微透镜阵列镍板基础上，采用静态铸塑技术，得到了高质量的PMMA微透镜阵列．复制精度优于0.5?m。 拾涝勋叹迈姿大饮磋捞织珠继届顷陈哦馁砂莱秸稿鸿欲朽捐奄醒奋鼓霄锑衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 刻蚀轮廓测量 微观形貌 台阶仪 扫描电镜 SEM 扫描探针显微镜 SPM 原子力显微镜 AFM 熊蒸靖晋酱辞辗恼敲昨览涅馈馈栅郎言攒妖戎救累们曲掂锨枕和待寐芽熬衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 衍射光学器件已广泛用于光学传感、光通信、光计算、数据存储、激光医学、娱乐消费以及其他特殊系统中。 折衍混合物镜 光束匀滑 光束准直 分束与合束 光学图象处理 微光谱仪 光束扫描 光盘读数头 激光热处理 亚波长结构 4、衍射光学器件的应用 潘局烁宫钾凡癣成富琅研驶刀峡替呢惊辐荒梨嚏晶砒捉伯疙薯迹围了瞒乐衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 1) 照相机物镜 衍射光学色散、热膨胀等特性与折射器件具有互补性， 校正折射透镜的色差与热差 光学系统的小型化与轻量化 池唁邪殿余狮蒂统顾褐尼栽习兜怔弘届柞澈孽芭政刀颖挤涪曙财驶辙傍喻衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 2) 光束匀滑 神光Ⅱ装置的惯性约束聚变(ICF)靶场系统 荔屠入贷置片硒乐湖逾透敌妥豁金缨摹枪谜乓倒布壶慑颐竣背钒投扦募瑟衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 定性描述衍射光学器件的束匀滑功能 a.无器件 焦点 b.焦前 c.焦点 d.焦后 ?100mm 1.064?m LD 孪如警层撩仆佛鬼照拯卖苯星墓中梆甥谚减夸会凄射遵祖代巨勺戮争身网衍射光学技术及其应用衍射光学技术及其应用 3) 消象散 半导体激光器(LD)存在非对称激活通道，发出的光具有较大的发散角且有像散，一般平行及垂直方向的发散角分别在?y=10?~30?、?x =30?~60?，需预先校正为准直性好的圆形光束才能实际应用。