Touch_Panel产品开发教育训练预览.pptVIP

项 目 线 别 药 液 名 称 成 分 外 观 PH值 溶解度 1 ITO GD709碱性清洗剂 KOH、水、界面活性剂 无色液体 11 可溶于水 2 ITO Metal EC-IP100 光阻剂 酚衍生物、酚醛树脂、醋酸酯 暗红色 NA 不溶于水 3 4线通用 EZ240 光阻稀释剂 丙二醇甲醚、乙酸丙二醇单甲基醚酯 无色透明吸湿性液体 5~7 可溶于水 4 ITO Metal DEV DT200显影液 （TMAH） 氢氧化四甲基铵、水 无色液体 11 可溶于水 5 ITO 蚀刻 类王水 （ITO 蚀刻液） 硝酸、盐酸 暗褐色 ＜1 可溶于水，酒精及丙酮 6 ITO Metal 剥膜液（N300） MEA单乙醇胺、 BDG二乙二醇丁醚 无色或微黄 12 可溶于水 7 OC 显影液 大乾KD850 KOH、水、界面活性剂 微黄澄清液体 11~12 可溶于水 8 Metal 蚀刻 铝酸 （Metal 蚀刻液） 醋酸、硝酸、磷酸 透明无色液体 ＜1 可溶于水 9 TOP OC EOC 170 光阻剂 乙酸丙二醇单甲基醚酯、压克力单体、压克力树脂、光起始剂 无色液体 NA 不溶于水 2.34. 黄光制程化学用品 2.35. 黄光制程常见不良 涂布不良： 1. 涂布针孔 2.箭影 3.气泡 4.刮伤 5.脏污 6.光阻回溅… 显影不良： 1. 显影不净 2.过显 3.刮伤 4.脏污 5.药液残留 6. 光阻脱落 7.显影圈 8.凹点…… 蚀刻不良： 1. ITOMetal残留/过蚀 2.脏污 3.刮伤…… 剥膜不良： 1. 剥膜不净 b.脏污 3.刮伤 4.药液残留…… 其它不良： 1. MO脱落 2.SiO2脱落 3.静电击伤 4.线阻偏差…… 2.36. 涂布异常图片 1. 涂布针孔（部分因脏污、光阻粘度、涂布机台异常等所导致，目视为白色亮点） 2.涂布气泡（部分因脏污、光阻粘度、涂布机台异常等所导致，目视为白色亮点） 3.涂布脏污（部分因来料脏污、未清洗干净、机台脏污等所导致） 4.涂布箭影（部分因玻璃上粘有有机物、涂布机台异常、光阻粘度、 风刀水未吹干等所导致） 2.37. 显影异常图片 1. 显影不净（部分因软烤温度、时间、曝光能量、显影速度等所导致,出现为显影后, 目视白色条状,2D为彩色物质） 2. 药液残留（在显影、剥膜清洗后留下的药液残留） 3. Metal线上光阻残留（固定光阻残留主要因光罩上粘有脏污等其他物质所导致） 4. 光阻脱落（部分因软烤温度、曝光能量、显影速度等所导致，出现为显影后， 目视黑色点状，如脱落不严重目视无法识别） 6.顶伤（因机台及导轮毛刺等所导致。出现在每道制程，目视为白色亮点、 2D下成脏污状且透有彩色） 5.光阻刮伤（因机台及导轮毛刺等所导致。出现在每道制程，强光下目视 为白色条、点状） 7. 显影圈（部分因显影速度及电导率等所导致，出现在显影后，目视为 小白点、较小且密集） 8.锯齿（部分因软烤温度、曝光能量、显影速度等所导致，出现在显影后， 目视锯齿状/外观”老鼠咬”） 2.4. Sputter 主要控制参数 参数意义 设定范围 参数名称 加热玻璃基板 一般0~350℃ ITO：300℃左右 SiO2：110℃左右Metal：70℃左右 温度 Temperature 1. 产生Ar Plasma，提供Ar离子撞击Target，溅射出的Target原子在基板表面沉积。 2.提供反应气体,如O2 数10~200Sccm 气体流量 Ar Flow Rate 保证稳定的Plasma和膜质。 0.1~？Pa 保证稳定的膜厚和阻抗。 0~？KW 制程压力Pressure 靶材功率Power 2.5. ITO Sputter 应用 在黄光制程中，主要有ITO、Metal、SiO2需要经过Sputter。 ITO 是一种导电氧化物。中文名称是氧化铟锡，具有高导电率、高穿透率、高的机械硬度、良好化学稳定性。因此，它是液晶显示器（LCD）、触摸屏（Touch Panel）的透明电极最常用的薄膜材料。 ITO 特点：透明、导电、稳定性好 ITO 应用： 1. 面电阻（方块电阻） 2. 膜厚 3. 穿透率 4. 附着力 ITO Sputter制程管控点： 方块电阻： 是指一个正方形的薄膜导电材料边到边“之”间的电阻，方块电阻有