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真空蒸镀市场报告 1. 真空蒸镀概念、原理、特点； 2. 真空蒸镀工艺； 3. 真空蒸镀中石墨坩埚的使用以及主要要求； 4. 我公司石墨坩埚的优势； 5. 真空蒸镀市场； 6. 真空蒸镀设备生产厂； 7. 真空蒸镀客户调查 一、 真空蒸镀概念、原理、特点。 1. 真空蒸镀概念： 在真空环境中，将材料加热并镀到基片上称为真空蒸镀，或叫真空镀膜（vacuum evaporating; vacuum evaporation）。 真空蒸镀是将待成膜的物质置于真空中进行蒸发或升华，使之在工件或基片表面析出的过程。 　真空蒸镀中的金属镀层通常为铝膜，但其它金属也可通过蒸发沉积。在塑料薄膜或纸张表面（单面或双面）镀上一层极薄的金属铝即成为镀铝薄膜，它广泛地用来代替铝箔复合材料如铝箔／塑料、铝箔／纸等使用。 2. 真空蒸镀原理： 金属加热至蒸发温度。然后蒸汽从真空室转移，在低温零件上凝结。该工艺在真空中进行，金属蒸汽到达表面不会氧化。, 都是采用电阻加热法来获得铝蒸发所需的高温。而加热器所使用的材料, 除镀镜行业仍用钨丝以及香烟包装镀铝低部分使用氮化硼,二硼化钦外, 其它行业如金银线、烫金材料、商标印刷、金属棉、包装材料和大部分香烟包装纸等用的真空蒸发镀铝膜蒸发舟, 是多种不同型号的碳石墨材料加工而成的。根据真空镀铝工艺的要求, 选择较好的碳一石墨材料制造蒸发舟, 以求延长蒸发舟的使用寿命, 提高生产效率, 降低成本。 一般在选择碳一石墨材料时,应考虑以下几点?? 1. 密度高、低气孔率, 特别是开口气孔要少。 2. 良好的导电性能, 特别是应选择在高温情况下, 具有稳定的电阻系数。 ??3. 材质均匀, 特别是要避免多种缺陷, 如裂纹、砂眼及变形等等。 4. 较高的纯度。碳一石墨蒸发舟是在高温和较高的真空下使用, 如因杂质较多,在高温下形成大量的挥发分物质, 不但使真空镀膜预处理时间增加, 影响生产效率, 而且影响有些特殊要求的产品质量。 ??5. 较低的热膨胀系数、良好的坑热震性能, 以使尺寸稳定、接触良好, 在急冷急热下, 不至于碎裂。良好的机械强度, 以减少操作过程中的断裂。 ??6. 不易和铝发生作用。碳和铝发生作用, 产生开花、凸泡, 造成蒸发舟断裂, 是用户最伤脑筋的间题之一。 那么选择什么样的碳素材料制造蒸发舟呢？才能减少和避免上 述情况发生呢？除严格按照前面提出的几条要求选择外, 还要从碳一石墨材料的结构状况进行认真选择。众所周知, 在正常情况下, 碳和铝在650℃左右时即相互作用, 生成碳化铝, 但蒸镀工艺的操作温度经测定在1400℃左右, 而且操作又在较高的真空状态下进行, 铝蒸气就容易进入到碳的结构内部, 此时以结晶较完善的石墨为基材制造的蒸发舟由于在高温石墨化处理时,杂质清除形成了较多气孔，而且更多的为开孔, 有利于铝蒸气进入其结构内部。另外, 石墨具有较规则的层状结构, 易使铝蒸气进入其层面之间的碳原子发生作用, 破坏碳一石墨结构, 因此结晶越完善的石墨基蒸发舟, 就越容易造成“ 开花、凸泡” 的现象。 四. 我公司石墨坩埚的优势。 五. 真空蒸镀市场。 真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要分支，是最有发展前景的表面涂覆应用技术，它具有一系列其它工艺不可取代的优异特点：不受被镀元件的材料及形状的影响。镀膜的厚度可以控制、一般为十分之几或百分之几微米；可镀功能性表面镀层，无须象化学镀银那样进行补充抛光。因而，，它已广泛地应用于光学、电子学、能源开发、理化仪器、建筑机械、包装、民用制品、表面科学以及科学研究等领域中。被誉为最具发展前途的重要技术之一。 l、光学工业的应用 根据光学性能的要求，需要改变光学镜片表面对光波透射、反射能力。真空镀膜就可以实现此项需求。 增透膜：在光学镜片表面镀以低折射率介质，提高光波在镜片表面的通过能力这就是增透膜。根据光学系统在实际使用中A眼、照相底片、光电器件对透过光波长范围的不同需求。可调整增透光的光度长区域。 反光膜：在镜片表面真空镀以金属或高折射率介质，可提高镜片表面对光波的反射能力。同样，也可根据镜片不同的使用要求，调整反射光波的波长区域及反射能力。 分光膜：将一束光分为二束光称为分光。有能量分光，如透反比例相等的中性分光；有颜色分光，如逶紫光反黄光；有特性分光，如偏振分光等等。在镜片表面真空镀金属，或交替镀高低折射率介质，就可以实现分光功能。 滤光膜：有一些特殊光学仪器中，有时要求特定的光通过，其他光反射；或特定的光反射，其他光通过；真空镀上滤光膜就能实现此功能。滤光膜有窄带、宽带、干涉、截止滤光膜等，均 可由真空镀膜实现。 保护膜：可以在镜片表面镀以硬质高强度薄膜，增加镜片表面机械强度以及防霉防雾防化学腐蚀能力。 装饰膜：真空蒸镀的介质薄膜，因光的干涉作用会产生不同的色