界面与表面技术---薄膜答案.pptVIP

功能薄膜材料 ;薄膜材料的制备方法;物理气相沉积方法;物理气相沉积（PVD）优点：;物理气相沉积（PVD）类型;（1）真空蒸镀;;（2）离子镀;;离子镀优点;（3）溅射沉积;;溅射沉积特点：;化学气相沉积（CVD）特点;1 CVD的基本工艺过程;CVD过程为：;2 CVD工艺方法：;等离子是离子、电子、中性原子和分子的集合体。;;;PCVD技术的特点有：;小结：;几种主要的功能薄膜及其用途 ;低熔点单元素导电薄膜; 复合导电薄膜;氮化钛薄膜 ;性能 金黄色 硬度 2200Hv 摩擦系数0.4-0.6 磨损率 10-17 m3/Nm 最高使用温度 500℃ ;多元氮化物;TiAlN薄膜性能;TiAlN涂层性能;TiAlN薄膜应用; TiAlN挤型模;立方氮化硼 c-BN（4000Hv）;金刚石薄膜 ;金刚石的优异特性 ;;制备金刚石薄膜的基本要求 ;沉积金刚石薄膜的衬底材料：;类金刚石薄膜（Diamond-like Carbon Films） ;;;纳米金刚石薄膜;纳米结构薄膜的优点;;非晶态SiNx; TiN/CNx纳米多层膜;Ti-Si-N纳米混合复合涂层;混合复合薄膜不需要严格的旋转设备，比纳米多层涂层制备简单得多。 非晶态SiNx阻碍TiN晶体边界的滑移，并且细化TiN晶粒使薄膜产生超硬效应。;磁性薄膜 ;光学功能薄膜 ;光盘的特点 ;;①基底上沉积高反射铝膜(提高记录介质的消反作用) ②其上沉积一层透明的SiO2层（阻止记录层的热量向向反射层扩散） ③最后沉积TeO1.1 膜(TeO1.1层在强激光束作用下烧蚀成信息坑，记录信息 );;纳米氧化钛光催化材料;TiO2的晶体结构;特点： 金红石的原子排列非常致密，相对密度和折射率较大，具有很高的分散光线的本领和强的遮盖力和着色力。 板钛矿是一种亚稳相，极少被应用。 锐钛矿结构不如金红石稳定，具有良好的光催化活性，颗粒尺寸在纳米级时透明。 ;纳米TiO2薄膜;溶胶凝胶法;化学气相沉积法;磁控溅射法制备TiO2 薄膜;;磁控溅射—溶胶凝胶法制备纳米TiO2 薄膜的光催化性质;影响因素及提高TiO2光催化性能的途径;TiO2薄膜的厚度;TiO2薄膜的掺杂（离子修饰）;;高价离子（W6+）的掺杂壳使表面势垒变高，光生电子空穴在强电场下得到有效的分离增强了光降解效果；而低价离子（Ca2+）的作用则相反。 与Ti4+离子半径（74.5pm）相近的离子较易取代晶格位置上的Ti4+??进入晶格间隙（如Fe3+ 、Co 2+ 、Ni2+ 、Cr2+ ），而Zn2+等具有较大离子半径，难以进入TiO2的晶格，在较低掺杂浓度下，表面可能会析出ZO团簇。 在TiO2中掺Ag金属粒子，可使光吸收向长波方向偏移；若同时再掺入Re（铼），则可大大提高（·OH）的产率。;研究表明，只有通过掺杂引入新的杂质能级才有可能实现可见光催化。;;问题： 1 比较说明CVD与PVD技术特点以及各自的应用范围。 2 目前新型超硬薄膜研究趋势是什么？举例说明。 3 纳米结构薄膜有什么优点？ 4 薄膜技术可以使产品提高某些方面的性能，试举一例说明，并提出制备方法以及薄膜表征方法。