YIG薄膜磁性能的影响.pdfVIP

下载本文档

26
0
约 6页
2015-09-26 发布于重庆
举报
版权申诉

YIG薄膜磁性能的影响.pdf

1、有哪些信誉好的足球投注网站（book118）网站文档一经付费（服务费），不意味着购买了该文档的版权，仅供个人/单位学习、研究之用，不得用于商业用途，未经授权，严禁复制、发行、汇编、翻译或者网络传播等，侵权必究。。
2、本站所有内容均由合作方或网友上传，本站不对文档的完整性、权威性及其观点立场正确性做任何保证或承诺！文档内容仅供研究参考，付费前请自行鉴别。如您付费，意味着您自己接受本站规则且自行承担风险，本站不退款、不进行额外附加服务；查看《如何避免下载的几个坑》。如果您已付费下载过本站文档，您可以点击这里二次下载。
3、如文档侵犯商业秘密、侵犯著作权、侵犯人身权等，请点击“版权申诉”（推荐），也可以打举报电话：400-050-0827(电话支持时间：9:00-18:30)。
4、该文档为VIP文档，如果想要下载，成为VIP会员后，下载免费。
5、成为VIP后，下载本文档将扣除1次下载权益。下载后，不支持退款、换文档。如有疑问请联系我们。
6、成为VIP后，您将拥有八大权益，权益包括：VIP文档下载权益、阅读免打扰、文档格式转换、高级专利检索、专属身份标志、高级客服、多端互通、版权登记。
7、VIP文档为合作方或网友上传，每下载1次，网站将根据用户上传文档的质量评分、类型等，对文档贡献者给予高额补贴、流量扶持。如果你也想贡献VIP文档。上传文档

YIG薄膜磁性能的影响

第22卷第2期材料研究学报 Vbl．22No．2 00 CHINESEJOURNALOF 2 2 8年4月 MATERIALSRESEARCH 008 April 退火工艺对射频磁控溅射Bi：YIG薄膜磁性能的影响杨青慧张怀武刘颖力文岐业 (电子科技大学电子薄膜与集成器件国家重点实验室成都610054) 摘要对于用射频磁控溅射技术在Si基片上制备的Bi：YIG系薄膜，用快速循环退火方法对其进行晶化处理，研究了遇火温度对Bi：YIG薄膜结晶状态和形貌的影响，以及退火气氛和循环周期对薄膜性能的影响．结果表明，用快速循环退火可以在Si单晶基片上得到磁性能优良的薄膜(饱和磁化强度139kh／m，矫顽力6．37kA／m)并使薄膜形貌有较大改善，在石英基片上制备的薄膜法拉第角比常规退火的薄膜增大了约一倍．关键词无机非金属材料，快速循环退火，Bi：YIG薄膜，饱和磁化强度，矫顽力．分类号TB321 文章编号1005—3093(2008)02—0187-04 Theeffectof tothe ofBi：YIG magneticproperties annealing ．filmRF onSisubstrate by magnetronsputtering YANG ZHANGHuaiwu”LIUWEN Qinghui Yingli Qlye and DevicesState ThinFtlm Integrated Laborator!，． (Electronic Key ElectronicScienceand Universityol TechnologyoIChina，Chengdu610054) NationalNatare FundsforT龇entedProfessionalsNo 事Supportedby Science receivedMarch revisedform Manuscript 12，2007；in August24，2007．料To whom shouldbe correspondence ABSTRACTBi：YIGf．Imwas onSisubstratesradio Amorphous deposited by and recurrentthermal effectsof sputteringcrystallizedby rapid annealing(RRTA)method．Theheating