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ULSI中Cu互连线的显微结构及可靠性.pdf

第 期 电 子 学 报 8 Voi . 32 No . 8 年 月 2004 8 ACTA ELECTRONICA SINICA Aug . 2004 中 互连线的显微结构及可靠性 ULSI Cu 1 1 2 2 3 1 1 王晓冬 ,吉 元 ,李志国 ,卢振军 ,夏 洋 ,刘丹敏 ,肖卫强 ( 北京工业大学材料科学工程学院,北京 ; 北京工业大学电子信息与控制工程学院,北京 ; 1. 100022 2 . 100022 3 . 中国科学院微电子中心,北京 100029 ) 摘 要: 观察了 中大马士革结构的 互连线的晶粒生长和晶体学取向 分析了线宽及退火对 互连线 ULSI Cu . Cu 显微结构及电徙动的影响 互连线的晶粒尺寸随着线宽的变窄而减小 与平坦 膜相比, 互连线形成微小的晶 . Cu . Cu Cu 粒和较弱的( )织构 、 退火促使 互连线的晶粒长大、( )织构发展,从而提高了 互连线抗电徙 111 . 300C 30min Cu 111 Cu 动的能力 结果表明, 的扩散涉及晶界扩散与界面扩散,而对于较窄线宽的 互连线,界面扩散成为 互连线电 . Cu Cu Cu 徙动失效的主要扩散途径. 关键词: Cu 互连线;晶体学取向;晶粒尺寸;电徙动 中图分类号: 文献标识码: 文章编号: ( ) TN454 A 0372-2112 2004 08-1302-03 Microstructure and Reliability of ULSI Copper Interconnects 1 1 2 2 3 1 1 , , , , , , WANG Xiao-dong JI Yuan LI Zhi-guo LU Zhen-jun XIA Yang LI

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