LED用蓝宝石单晶衬底抛光工艺研究.pdfVIP

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2015-08-30 发布于安徽
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LED用蓝宝石单晶衬底抛光工艺研究.pdf

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LED用蓝宝石单晶衬底抛光工艺的研究胡晓凯宋志棠刘卫丽汪海波张泽芳王良泳中科院上海微系统与信息技术研究所，信息功能材料国家重点实验室，纳米技术研究室，上海200050 摘要：本论文研究了蓝宝石抛光初始阶段抛光速率与下压力、抛光转速两项工艺参数的关系；分析了抛光过程中摩擦系数的动态变化规律。结果表明，抛光速率大致正比于下压力，即随压力增大抛光速率线性加快；而抛光转速对抛光速率则影响不大。摩擦系数动态监测表明，随着抛光的进行，动摩擦系数缓慢增加。关键词：蓝宝石；抛光；摩擦系数；纳米氧化硅抛光液 ChemicalMechanicalPolishing TechnologyforSapphireSingle-crystalSubstrate HUXiaokai SONGZhitangLIUWeiliWANGHaibo ZHANGZhefangWANGLiangyong StateKeyLaboratoryofFunctionalMaterialsforInformatics,Laboratory ofNanotechnology,ShanghaiInstituteofMicro-systemandInformation Technology,ChineseAcademyofSciences,Shanghai200050,China Abstract:Inthispaper,thecorrelationsbetweenmaterialremovalrateanddown- pressureorrotatingspeedarestudiedattheinitialstageofsapphireCMPprocess.The instantchangeoffrictioncoefficientisalsoanalyzedduringthisprocess.Thepolishingrate isapproximatelylinearlyproportionaltothedown-pressurebutlessaffectedbytherotating speed.Thefrictioncoefficientincreasesgraduallyasthepolishingproceeds. Keywords:sapphire;CMP;frictioncoefficient;nano-silicaslurry j同一批次￡抛光处理．抛光参！转速 (r/rain) 图2不同抛光i mittingdioc ,140-L143. :antyeP,K