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真空蒸发镀膜原理及设备的使用维护真空蒸发镀膜原理及设备的使用维护 真空蒸发镀膜原理及设备的使用维护真空蒸发镀膜原理及设备的使用维护 一、真空镀膜技术概述 一、真空镀膜技术概述 一、真空镀膜技术概述一、真空镀膜技术概述 真空镀膜技术是真空应用技术的一个重要领域。这一技术目前之 所以得到了飞速的发展是因为它不仅仅是单一的真空应用技术，而是 以真空技术为基础，利用物理或化学的方法，并且吸收了电子束、分 子束、离子束、等离子体、射频、磁控等一系列新的技术，从而为科 学研究与生产提供了膜层涂覆的新工艺、新技术的特点。 真空镀膜技术 真空镀膜技术 真空镀膜技术真空镀膜技术 在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发（或溅射），使其在被 涂覆的物体（称基片、基板或基体）上的方法称为真空镀膜法。 真空镀膜技术的分类真空镀膜技术的分类 真空真空镀膜技术的分类镀膜技术的分类 目前真空镀膜技术中所采用的镀膜方法主要有真空蒸发镀、真空 溅射镀、真空离子镀、束流沉积镀以及分子束外延和化学汽相沉积等 多种。其具体内容见下表： 工作方式 处理方法 离子运动能量 等离子体 高真空 电阻加热蒸发 真空 电子束蒸发 等离子熔射 蒸发 0．1～1ev 真空电弧蒸发 薄膜沉积 辉光放电分解 镀膜 真空感应蒸发 （表面厚 PVD 分子束外延 度 放电方式： 增加） 真空 直流、交流、高频 溅射 10～100ev 离子束溅射镀膜 电极数目： 镀膜 2 极、3 极、4 极 反应溅射、磁控溅 射、对向靶溅射 直流二极型 多阴极型 真空 ARE 型、增强 ARE 单一离子束镀膜 离子 数 10～5000ev