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Al-AI
N太阳能选择性吸收涂层的中频溅射工艺研究1
付志强2王成彪岳文周家斌彭志坚于翔
(中国地质大学(北京)工程技术学院，北京100083)
摘要：本文探讨了A1N膜和渐变AI-AIN选择性吸收涂层的中频溅射技术，研究结果表明：增大铝靶电流或减小
氩气流量有助于改善AIN反戍溅射的丁艺稳定性：随着氮气流量的增加，AIN膜的氮铝原子比增大，增大氩气流
量或减小铝靶电流使AIN膜成分更难满足理想化学计量比要求；AIN膜的致密性随着氮气流量和铝靶电流的增大
而得到改善，但氩气流量对AIN致密性没有明显影响；制备的渐变AI-AIN选择性吸收涂层可见光反射率低于6％，
具有很好的光谱选择性。
关键词：AI-AIN：选择性吸收涂层；中频反心溅射；工艺参数
of of A1-·A1Nsolar
medium--frequencysputteringgraded
Study
selectiveabsorbers
FU WANG YUEWenZHOUJiabin
Zhiqiang Chengbiao
’PENGianYU
Zhij Xiang
and of 100083，
(School Technology,ChinaUniversityGeosciences(aeijing)，Beijing
ofEngineering
China)
AINfilmsand Ni-AINsolarselective
Abstract：Themedium of graded
frequencysputteringprocess
absorbersWaSstudied．ItWaSshownthatthe ofAINreactive Can
stability magnetronsputtedng
process
N／AIis
Al currentor flow atomicratioof
be increasingtarget decreasingargon rate；the
improvedby
flow the ofthefilmswiththeidealstoichiometric
increasedwiththeriseof rate．but
nitrogen synthesis
moredifficultwith flowrateor Al
ratioofAINbecomes current；the
increasingargon decreasingtarget
theriseof flowrateorAI whilethe
ofAINfil
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