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微细加工技术与设备.pdf
显微 、测量 、微细加工技术与设备
Micro scop e , Mea surement , Microf abrication Equip ment
基于表面等离子体的微纳光刻技术
1 ,2 1 1 1 1
杨 勇 , 胡 松 , 姚汉民 , 严 伟 , 赵立新 ,
周绍林1 ,2 , 陈旺富1 ,2 , 蒋文波1 ,2 , 李 展1
( 1. 中国科学院 光电技术研究所 , 成都 6 10209 ;
2 . 中国科学院 研究生院 , 北京 100039)
摘要 : 首先介绍了光刻技术的发展及其面临的挑战 。随着纳米加工技术的发展 , 纳米结构器件必
将成为未来集成电路的基础 , 而纳米光刻技术是纳米结构制作的基础 , 基于表面等离子体的纳米
光刻作为一种新兴技术有望突破 4 5 nm 节点从而极大提高光刻的分辨力 。介绍了表面等离子体
的特性 , 对表面等离子体 ( SP s) 在光刻中的应用作了回顾和分析 , 指出在现有的利用表面等离
子体进行纳米光刻的实验装置中 , 或采用单层膜的超透镜 ( Sup erlen s) , 或采用多层膜的 Sup er
len s , 但都面临着如何克服近场光刻这一难题 ; 结合作者现有课题分析了表面等离子体光刻的发
展方向 , 认为结合多层膜的远场纳米光刻方法是表面等离子体光刻的发展方向。
关键词 : 表面等离子体 ; 纳米光刻 ; 近场光刻 ; 倏逝波 ; 局域增强
中图分类号 : TN 305 . 7 ; TB383 文献标识码 : A 文章编号 : 167 1- 4776 (200 8) 12- 07 16- 04
Micro/ NanoLithography Technology Based on Surface Plasmons
Yang Yon g1 ,2 , Hu Song1 , Yao Hanmin1 , Yan Wei1 , Zhao Lixin1 ,
Zhou Shaolin1 ,2 , Chen Wangf u1 ,2 , J iang Wenbo1 ,2 , Li Zhan1
( 1. I ns ti t ute of Op tics an d E lect ronics , Chi nese A ca demy of S ciences , Cheng d u 6 10209 , Chi na;
)
2 . Gra d uate S chool , Chi nese A ca demy of S ciences , B eij i ng 100039 , Chi na
Abstract :
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