WO_x_TiO_2光催化剂的可见光催化活性机理探讨.pdfVIP

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2017-08-12 发布于江苏
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物理化学学报$ !#$ %’( )(*+ % !# ’( , -. /0123 450$63 7$83 ) !#$ ! $! % * !# + !,, % ! ’ ()! 光催化剂的可见光催化活性机理探讨! 张琦李新军李芳柏! 常杰 $ 中国科学院广州能源研究所广州 , 香港理工大学土木与结构工程系香港九龙% ) !,D1 @ ) 摘要采用磁控溅射技术在用浸渍提拉法制得的薄膜上，溅射氧化钨层通过气相反应中光催化降解二甲 A5E- ) （）苯的实验表明，薄膜具有可见光活性通过吸收光谱、射线光电子能谱等方法对其 FE ’ G A5E- 2 HI/I5= J JKL 可见光活性的机理进行探索吸收光谱表明对可见光响应的范围有一定的扩展吸收强度增 2 HI/I5= FE ) A5E ) ’ - 加表明薄膜表面形成了明显的杂质能级和缺陷能级这是在可见光范围有 2 JKL FE ’ G A5E- F A5 ) FE ’ G A5E- 一吸收的主要原因也是光催化剂具有可见光活性的必要条件之一，同时杂质能级的存在使半导体费米能级上 ) 移载流子增加光催化效率提高 ) ) 2 关键字光催化可见光活性费米能级二氧化钛磁控溅射氧化钨 * ) ) JKL) ) ) ) 中图分类号* ED1. “ 光催化自洁防雾薄膜具有潜在的应用前景提拉薄膜再经过热处理磁控溅射 2 A5E- ) , 8 + ” 目前常用