反渗透在电子行业的应用.pdfVIP

反渗透在电子行业的应用 电子元器件的制造需要大量高品质的纯水、超纯水电子级超纯水, 是目前世界上纯净品质要求最高的水.电子工业用的超纯水，广泛用 于生产计算机硬盘，集成电路芯片，半导体，显像管，液晶显示器， 线路板等用的纯水，对水的纯度要求较高，对出水电阻率的要求达到 上(MΩ.cm)级。 随着电子工业的发展对高纯水提出了越来越高的要求。制作16K DRAM TOC( ) 500ppb 1ppb 位 允许水中 总有机碳 为 、金属离子为 、 ≥0.2μm 的颗粒为 100 个/毫升;而制作 16M 位 DRAM 时，则要求 TOC5ppb 0.2ppb ≥0.1μm 0.6 / 、金属离子 、水中 颗粒数为 个升。 在电子级超纯水制备系统中汇集了当前水处理技术最先进的工 , (EDI) , 艺和设备如超滤、微滤、反渗透、膜脱气、电去离子 等其中反 渗透装置是整个纯水、超纯水制备系统工程中一关键的设备.它能有 97% 99% 效地去除原水中 以上的溶解性无机物质、 以上的相对分子质 量大于300的有机物、99%以上的包括细菌在内的各种微粒和95%以 上的二氯化硅. 反渗透工艺在纯水、超纯水制备系统工程中的应用,不但能提高 了产水品质降低生产成本而且防止环境污染 有力地推进了电子工, , , 业的进步,同时也促进了纯水、超纯水制造技术的发展. RO 1981 RO 在我国 应用于电子工业水处理，最早可追溯到 年， 技术就己成功应用于大规模集成电路超纯水制备。之后，不断出现 RO制取超纯水工艺流程研究和更大规模超纯水制备的报道。 Electronic components manufacturing needs a large number of high quality pure water, pure water, electronic grade ultrapure water is the world pure quality requirement of the highest water. Electronic industrial ultrapure water, widely used in the production of computer hard disk, integrated circuit chips, semiconductor, kinescope, liquid crystal display, circuit boards,etc. Used in the pure water,the purity of the water demand is higher,for theresistivityrequirements toachieve (MΩ. Cm) level. With the development of the electronic industry of high pure water put forward more and more highly demand. Make 16 k bit DRAM allow water TOC (total organic carbon) for 500 PPB, metal ion is 1 PPB, or 0.2 u m particles for 100 a/ml; And make 16 m bit DRAM, then re