真空镀透明导电膜技术的发展.pdfVIP

维普资讯 。 ‘ ‘ · 《综述 ． 真空镀透 明导 电膜技术 的发展 戴法 震 胡织孙 郑英燠 (建村 院玻 璃所 用 ， (一 j原理 磁拧反应溅 射系统的原理 如 图 I所示 。靶 透 明导 电雕 J有高 的透 叫度 、较 低 的 电研l 材足一 板 ， 一般将它引到 电源 的负极 (直流 率硬物珲 化学性质稳定的特点。因此在国民经 或射频 j。衬底同定装置面朝靶、可 以接 地 、 济建设 、现代科学技 术和军事等领域 都有着广 悬空 、偏 胃、加热 、冷却或 同时兼有上述 几种 泛 的应用 ．镀 l透 明导 电膜 的玻璃 现 已广泛用 攻能 要充入 气体 ，使辉光放 电得以启动和维 l『Ili(空，交通工拜的 电加热玻璃 、液品 示器 持 。 强 范刚几个 毫托至 100毫托 。艟常 用 的溅 件生产、太阳能利用 光学等各种领域。透 明 射气体是氩 气。 导电膜的制造 技 术有 蒸发、化学气相沉积 、离 放 电开始后 ，正离子 轰击靶面，主要靠动 镀 、射额溅 射、阴极溅 射、磁控反应溅 射等。 量传递 打击中性靶 原于，溅 射出的中性原于再 我 国对各种镀 制技术进行过研究 。在磁控反应 凝结 到基片上形成 薄膜： 溅 射镀制大面积ITO膜透明导电玻璃的工 艺、 设备、靶 材的研 究工作取得突破性 的进展。制 造的产品 已满足 弓I进的液晶器件生产线 的工艺 要求= 目前国内 由于真空机械生产技术、超薄 玻璃原片 不能生产 等原因 ， 透 明导 电玻璃 还 没有形成工业性生产，以致 使这 一产 品全部 依赖进 口。为 了导 电玻璃这 一产 品尽快 国产化， 就必须加强磁控反应溅射技 术的工业 化生产的 开发，连续镀膜设备 的试制，I高质量薄玻璃的 生产技术等方面 的研究工作 。 二、磁控 反应溅射 在上述 几种透 明导 电膜真空镀制技 术中， 由于磁控反应溅 射的艘射速 率高，靶材 的污染 低，保证 了膜层 的质量；韭可以进行多种纯金 属 、化台物的碾 射：能够 采用反应溅 射来制取 圜 1 化台物膜，近年来越来越受 到人们 的重 规和应 维普资讯 是采用商预真空度的 岂条件镀 刨， 靶 材可 是 ·种纯 的金属．也 可 以是合 会。 2．溅 针靶 高压 匕溽 根据 需要 可以不 用氲 气作 溅 射气体 ，而用 其它 高几：电源 电rl的高低 接影响成膜速率 ， 气体或混合气体 如N2、或Ar+N2、空气等 这 电爪越高幞层的沉积速 率越高． 同时 l起幞层 时一般 含有反应溅 射的成份在 内。此 时生成的 的疵 点的几率也就越高。j口高 的高低还 受设 幞是化合物 反应溅 射也可 用来补充化台物靶 备状 况的局 限；要觇具体情 况而定 离解而损失掉 的成 份 3．溅射 气 体 压 强及 气 流 的 影 响 ITO膜透 明导电玻璃是采用磁控反应溅劓 一 般来说气 流总是用到尽可能高，使溅射 来制造 的。ITO幞是 以锡和 氧空位 勾施 主的 n 室内的杂质能得 到及时的清除，选 样能改善薄