LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征影响的研究.pdfVIP

维普资讯 光 电 子 技 术 与 信 息 OptoelectronicTechnology＆Information 2005Feb；18(1) 27 LIVCD法制备纳米氮化硅粉末工艺参数对粉体特征 影响的研究 黄永攀 ，李道火 ，王 锐 ，黄 伟 (1中科院安徽光学精密机械研究所，安徽 合肥 230031 2 山东道钬纳米技术研究院，山东 济南 250100) 摘 要： 激光诱导气相沉积法是制备纳米氮化硅粉末的主要方法之一。在制备纳米粉体过程中，各工艺参数的 变化对粉体特征有很大的影响。在激光制Si3N4纳米粉中基本的运行参数有：激光强度 (，)，反应池压力 (P)， 反应火焰温度 ()，反应气体配比(sIH ／ H。)，反应气体流速 ()等。通过实验研究了各个工艺参数对粉体 特征的影响并分析了其影响的原因。 关键 词 ：激光诱导化学气相沉积；氮化硅；纳米 中图分类号：TB383；TN249 文献标识码：A 文献编号：1006-1231(2005)01-0027-03 StudyontheTechnicsParameter’SInfluencetotheCharacterofNano ’ Si3N4PowderFabricatedbyLIVCD HUANG Yong—pan ，一，LIDao—huo ，WANG Rui，一，HUANG W ei (1AnhuiInstituteofOpticsandFineMechanics，ChinesesAcademyofSciences，Hei~i230031，China； 2ShandongDaohuoNanoTechnologyAcademy，Jinan 250100，China) Abstract： Laserinducedchemicalvapordepositionisthemainmethodamongthemethodsoffabricatingnano Si3N4．Thechangesoftechnicsparametershavegreatinfluencetothecharacterofnanopowder．Thepowder densityofCOzlaser，reactioncellperssure，reactiontemperature，reactantgasratioof siH4／ H3，flowrate ofreactantraethemain praametersintheprocessoffabricatingnanopowderby LICVD．Theinfluenceto thecharacterofnanoSi3N4powderbyeverytechnicsparameterwasstudiedandtheinfluencingreasonWas analyzed． Keywords： laserinducedchemicalvapordeposition；siliconnitride；nano 1 引 言 光制粉中，工艺参数的制定决定了粉体的质量。在激 光制 Si3N 纳米粉中基本的运行参数有：激光强度 激光诱导气相沉积法 (1aserinducedchemicalva． (，)，反应池压力 (P)，反应火焰温度 ()，反应气 pordeposition)是利用反应气体分子对特定波长激 体配比(H。／siH)，反应气体流速 ()等r213]。 光束的吸收而产生热解或化学反应，经成核生长形 除 之外，上述每个参量都可以单独控制和调整。 成超细粉末的一种制粉方法。LICVD法通常用CO2 本文通过实验分别调整上述各工艺参数来研究其对 激光器作热源，加热速率快、高温驻留时间短、冷却 纳米粉体特征的影响，探讨各工艺参数对粉