射频磁控溅射法制备TiO2薄膜及亲水性的研.pdfVIP

射频磁控溅射法制备 TiO2 薄膜及亲水性的研究 摘 要 本文系统总结了TiO 材料的特性和分类，介绍了TiO 功能薄膜的发展概况。全 2 2 面综述了TiO 亲水性材料的亲水性机理、制备方法以及应用。TiO 在紫外光的作用 2 2 下能够产生亲水性能。详细讨论了TiO 薄膜的制备方法，深入研究了射频磁控溅射 2 法制得的TiO 薄膜的几个性能。本论文的工作主要包括以下几个方面: 2 文中概括了TiO 材料的特性以及TiO 材料的分类，系统综述了TiO 薄膜的亲水 2 2 2 性原理、制备方法以及它们在光学领域、自清洁方面、电子领域及医学领域等各个 领域的应用，并展望了TiO 亲水性的研究发展应该向亲水剂的改性、亲水剂的固定 2 化以及多种技术联合使用的方向努力，以提高亲水剂的亲水活性，使亲水技术更加 实用化。 目前常用的TiO 镀膜方法主要有溶胶凝胶和射频磁控溅射等方法，溶胶凝胶法 2 薄膜厚度难以控制，磁控溅射法所用的设备先进，误差小，易操作，温度、时间、 功率容易控制，所得薄膜形貌均匀致密等特点。 根据薄膜亲水性的要求，利用射频磁控溅射法，以透明玻璃片和硅片2种不同的 材料为基板进行薄膜的制备。通过改变一系列工艺参数获得了一系列TiO2薄膜。研 究了这些薄膜结构和形貌的影响，结合薄膜的形成过程深入探讨了射频磁控溅射法 的机理。并通过分析不同制备条件下薄膜的性能，研究了薄膜性能和制备条件之间 的关系。 本工作表明使用射频磁控溅射法可以有效的实现TiO2镀膜玻璃的制备，从而为 高效制备高质量薄膜提供一定的理论指导。 关键词: 二氧化钛，磁控溅射，亲水性，接触角 I 射频磁控溅射法制备 TiO2 薄膜及亲水性的研究 Abstract In this article, the characteristics of the TiO materials and classification of the TiO 2 2 on the development of feature films. A comprehensive overview of TiO2 hydrophilic material hydrophilic mechanism, preparation and application. TiO2 in the role of ultraviolet light to produce hydrophilic properties. TiO2 films were discussed in detail the preparation, in-depth study of the RF magnetron sputtering in the performance of several TiO2 films. The main thesis of this work include the following: The first part of the dissertation focuses on the characterization and classification of nanophase