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半导体行业集成电路版图设计师岗位招聘考试试卷及答案
一、填空题(10题,每题1分)
1.集成电路版图设计中,DRC的全称是__________。
答案:设计规则检查
2.常用的版图设计工具CadenceVirtuoso属于__________公司。
答案:Cadence
3.金属互连线的最小线宽主要由__________决定(填“工艺节点”或“电路功能”)。
答案:工艺节点
4.多晶硅层在MOS管中主要用于制作__________。
答案:栅极
5.版图验证中,LVS的核心是检查__________与网表的电气连接一致性。
答案:版图
6.ESD保护电路常用的器件结构包括二极管和__________。
答案:三极管(或晶闸管)
7.寄生电容主要来源于相邻__________层之间的耦合。
答案:金属
8.版图分层设计时,各层需与__________的工艺层次一一对应。
答案:晶圆制造
9.模拟电路版图中,“共质心”设计主要用于减小__________误差。
答案:匹配
10.DFM的核心目标是提高芯片的__________。
答案:良率
二、单项选择题(10题,每题2分)
1.版图设计中,“最小金属间距”规则主要用于避免()。
A.信号串扰B.光刻误差C.金属短路D.电阻过大
答案:C
2.以下哪项不属于版图验证步骤?()
A.DRCB.LVSC.ERCD.逻辑综合
答案:D
3.先进工艺(如5nm)中,金属互连线优先选用()以降低电阻。
A.铝B.铜C.多晶硅D.金
答案:B
4.版图中“通孔(Via)”的主要作用是()。
A.连接不同金属层B.增大寄生电容C.隔离器件D.提高光刻精度
答案:A
5.以下哪种结构最适合模拟电路的对称设计?()
A.交叉指(Interdigitated)B.单指型C.环形D.分散布局
答案:A
6.寄生电阻的大小与()无关。
A.金属线长度B.金属线宽度C.金属层数D.材料电阻率
答案:C
7.ESD保护电路通常布局在芯片的()。
A.核心区域B.输入输出(IO)端口附近C.电源模块D.地平面
答案:B
8.版图设计中,“虚拟填充(DummyFill)”主要用于()。
A.减少寄生电容B.改善光刻均匀性C.增强信号隔离D.降低功耗
答案:B
9.以下哪项是数字版图的典型特征?()
A.强调节点匹配B.注重面积优化C.依赖共质心设计D.关注温漂抑制
答案:B
10.版图寄生参数提取(PEX)的结果主要用于()。
A.验证设计规则B.优化器件尺寸C.电路后仿真D.版图分层
答案:C
三、多项选择题(10题,每题2分)
1.版图设计规则主要包括()。
A.DRC(设计规则检查)B.LVS(版图与网表核对)C.ERC(电气规则检查)D.RTL(寄存器传输级)
答案:ABC
2.影响金属层寄生电容的因素有()。
A.金属线宽度B.金属线间距C.金属层数D.衬底掺杂浓度
答案:ABC
3.模拟版图设计的关键要点包括()。
A.器件对称布局B.电源地环路优化C.共质心结构D.高密度面积压缩
答案:ABC
4.以下属于版图分层依据的是()。
A.晶圆制造工艺层次B.器件类型(如MOS、电阻)C.信号类型(如数字、模拟)D.设计工具限制
答案:AB
5.先进工艺版图设计的挑战包括()。
A.寄生效应显著增强B.光刻分辨率要求提高C.DFM规则更复杂D.器件尺寸无关性
答案:ABC
6.版图中通孔设计需注意()。
A.通孔数量B.通孔间距C.通孔与金属层的覆盖面积D.通孔颜色
答案:ABC
7.以下可用于降低信号串扰的措施是()。
A.增加金属线间距B.插入隔离地线C.减少金属层数D.缩短平行走线长度
答案:ABD
8.ESD保护设计的常用策略包括()。
A.在IO端并联二极管B.增加栅氧化层厚度C.设计放电路径D.减小器件尺寸
答案:AC
9.版图与原理图(Schematic)不一致的常见问题有()。
A.漏连器件B.线宽违反规则C.器件参数错误D.通孔数量不足
答案:AC
10.版图数据交付(Tape-out)前需完成的验证包括()。
A.DRCB.LVSC.寄生参数提取D.逻辑仿真
答案:ABC
四、判断题(10题,每题2分)
1.DRC检查的是版图与原理图的电气连接是否一致。()
答案:×
2.多晶硅层可同时用于制作MOS栅极和电阻。()
答案:√
3.金属层数越多,芯片寄生电容一定越大。()
答案:×
4.模拟版图中,对称布局可有效抑制工艺偏差导致的失配。()
答案:√
5.版图中通孔数量越多,寄生电阻越小。()
答案:√
6.ESD保护电路的作用是防止芯片因静电击穿失效。()
答案:√
7.数字版图更注重面积和时序优化,模拟版图更注重匹配和噪声抑制。()
答案:√
8.寄生参数仅影响高频电路,对低频电
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