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高抗粘巯基-烯紫外纳米压印光刻胶及复合软模板的制备与性能研究.docx

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    高抗粘巯基-烯紫外纳米压印光刻胶及复合软模板的制备与性能研究

    一、引言

    1.1研究背景与意义

    在当今科技飞速发展的时代，微纳制造技术作为现代制造业的重要前沿领域，对于推动电子、生物、光学等众多产业的进步发挥着关键作用。纳米压印光刻技术作为微纳制造领域的核心技术之一，以其独特的优势在过去几十年间得到了广泛的关注和深入的研究。

    传统光刻技术在不断追求更高分辨率的过程中，面临着诸如光学衍射极限、设备成本高昂等瓶颈问题。而纳米压印光刻技术则另辟蹊径，它通过将具有纳米级图案的模板压印到光刻胶上，再经过固化和刻蚀等后续工艺，实现了高精度的微纳结构复制。这种技术不仅突破了传统光刻技术的分辨率限制，能够制备

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