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Cu低k互连系统可靠性:多维度剖析与提升策略研究
一、引言
1.1研究背景与意义
1.1.1研究背景
随着信息技术的飞速发展,集成电路(IC)在现代电子系统中扮演着愈发关键的角色,其性能的提升对于推动电子设备的小型化、高性能化以及低功耗化起着决定性作用。在集成电路的发展历程中,互连线技术作为连接芯片内部各个功能单元的关键部分,对芯片性能的影响日益显著。当集成电路的特征尺寸不断缩小,进入深亚微米乃至纳米尺度时,传统的铝互连技术面临着严峻的挑战,如RC延迟增大、信号串扰加剧、功耗增加等问题,这些问题严重制约了芯片性能的进一步提升。
为了解决上述问题,Cu低k互连系统应运而生,并凭借其
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