130纳米SOI电路单粒子效应剖析与加固技术探索.docx

130纳米SOI电路单粒子效应剖析与加固技术探索.docx

  1. 1、本文档内容版权归属内容提供方,所产生的收益全部归内容提供方所有。如果您对本文有版权争议,可选择认领,认领后既往收益都归您。。
  2. 2、本文档由用户上传,本站不保证质量和数量令人满意,可能有诸多瑕疵,付费之前,请仔细先通过免费阅读内容等途径辨别内容交易风险。如存在严重挂羊头卖狗肉之情形,可联系本站下载客服投诉处理。
  3. 3、文档侵权举报电话:400-050-0827(电话支持时间:9:00-18:30)。
查看更多

130纳米SOI电路单粒子效应剖析与加固技术探索

一、引言

1.1研究背景与意义

随着现代电子技术的飞速发展,集成电路在各个领域的应用日益广泛,尤其是在航空航天、军事等特殊环境中,对集成电路的性能和可靠性提出了更高的要求。130纳米SOI(Silicon-On-Insulator,绝缘体上硅)电路作为一种先进的集成电路技术,凭借其独特的结构和优异的性能,在这些领域中占据着重要的地位。SOI电路通过在硅衬底上生长一层绝缘层,将有源器件与衬底隔离,有效地减少了寄生电容和漏电流,提高了电路的速度、降低了功耗,并且增强了电路的抗干扰能力和可靠性。在航空航天领域,卫星、航天器等设备需要在复杂的空

您可能关注的文档

文档评论(0)

quanxinquanyi + 关注
实名认证
内容提供者

该用户很懒,什么也没介绍

1亿VIP精品文档

相关文档