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第1页，共13页，星期日，2025年，2月5日4.1制备过程
1、清洗2、氧化3、扩散或离子注入4、光刻5、薄膜沉积第2页，共13页，星期日，2025年，2月5日1、清洗
常用硅片清洗液Ⅰ号液：配方：NH4OH:H2O2:H2O=1:1:5-1:2:7使用条件：80?5?C，煮10分钟作用：去油脂，去光刻胶残膜，去金属离子和金属原子Ⅱ号液：配方：HCl:H2O2:H2O=1:1:6-1:2:8使用条件：80?5?C，煮10分钟作用：去金属离子和金属原子Ⅲ号液：配方：H2SO4：H2O2=3：1使用条件：120?10?C，煮15分钟作用：去油脂，去腊，去金属离子和金属原子第3页，共13页，星期日，2025年，2月5日2、氧化干氧：Si+O2=SiO2膜层致密，理想的Si-SiO2界面，生长速度慢湿氧：Si+2H2O=SiO2+2H2生长速度快，膜层致密性较差第4页，共13页，星期日，2025年，2月5日2、氧化氧化系统的简单说明图第5页，共13页，星期日，2025年，2月5日2、氧化（100）面和（111）面SiO2的氧化生长曲线第6页，共13页，星期日，2025年，2月5日3、扩散基本工艺流程第7页，共13页，星期日，2025年，2月5日3、扩散4.5磷的液态源扩散示意图第8页，共13页，星期日，2025年，2月5日3、扩散扩散温度900-1200?C。P源：POCl3,B源：BN，BO3一般分为预扩散和再扩散预扩散后：再扩散后第9页，共13页，星期日，2025年，2月5日4、光刻（1）涂胶（2）坚膜（3）掩膜板（4）瀑光（5）显影负光刻胶：光照后发生聚合反应，难以去除正光刻胶：光照后，感光剂发生分解，容易去除。第10页，共13页，星期日，2025年，2月5日
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