一种镀膜装置的转盘机构.docxVIP

说明书摘要

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本申请涉及一种镀膜装置的转盘机构，涉及镀膜装置领域。其包括固定外壳，固定外壳的左右两侧均转动连接有活动外壳，两个活动外壳的内侧均安装有转盘机构，转盘机构包括转动安装在活动外壳内侧底部的转盘，转盘的上表面靠近边缘位置固定有多个呈圆周状均匀排列的支撑块，且支撑块的上侧安插有竖直的支撑杆，通过料架对镀膜件进行挂装，并通过上环架对料架进行进行挂装，通过螺杆上设置的调节螺母能够对套块进行上下方向的调节从而实现对上环架的高度的调节从而能够适应不同高度的料架的挂装，同时通过可活动调节的吊块能够对料架的位置进行调节，从而更好的满足对镀膜空间的利用，对不同大小的镀膜件具有更好的适应能力。

权利要求书

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1.一种镀膜装置的转盘机构，包括固定外壳（2），所述固定外壳（2）的左右两侧均转动连接有活动外壳（1），两个所述活动外壳（1）的内侧均安装有转盘机构，其特征在于：所述转盘机构包括转动安装在活动外壳（1）内侧底部的转盘（9），所述转盘（9）的上表面靠近边缘位置固定有多个呈圆周状均匀排列的支撑块（8），且支撑块（8）的上侧安插有竖直的支撑杆（4），所述转盘（9）的上方设置有上环架（3），且上环架（3）的外侧边缘固定有多个均匀排列的套块（32），所述套块（32）通过套孔（34）套在支撑杆（4）上，所述支撑杆（4）包括螺杆（41），所述螺杆（41）上螺纹套装有上下两个调节螺母（42），且上下两个调节螺母（42）分别设置在套块（32）的上下两侧，所述上环架（3）上安装有多个沿着上环架（3）的圆周方向进行活动调节的吊块（5），且吊块（5）的下侧吊装有对镀膜件进行放置的料架（7），所述料架（7）通过上端的挂钩（6）与吊块（5）挂接。

2.根据权利要求1所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述上环架（3）的上侧开设有环形槽（31），且位于环形槽（31）的内侧底部开设有多个圆弧状的导向开口（33）。

3.根据权利要求1所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述转盘（9）的上表面靠近边缘位置开设有多个呈圆周状均匀排列的安装槽（91），且转盘（9）的上表面中心固定穿插有转动杆（92），所述转动杆（92）的上端穿过活动外壳（1）的顶部连接有电机。

4.根据权利要求3所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述支撑块（8）通过螺丝安装在安装槽（91）内，且支撑块（8）上开设有与螺丝配合的沉头孔（81），所述支撑块（8）的上表面固定有支撑套（82），所述螺杆（41）的下端固定有安插在支撑套（82）内的插头（43）。

5.根据权利要求1所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述吊块（5）的上端穿过导向开口（33）固定有导向块（51），且吊块（5）的侧面靠近下端位置开设有挂孔（52）。

6.根据权利要求1所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述挂钩（6）的下端固定有转动柱（61），且转动柱（61）的下端固定有圆形的挂板（62）。

7.根据权利要求6所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述料架（7）包括顶板（73）和底板（77），所述顶板（73）和底板（77）之间靠近边缘位置通过左右两个竖杆（75）固定连接，且两个竖杆（75）之间固定有多个上下均匀排列的挂环（74），所述挂环（74）的内侧固定有多个呈圆周状均匀排列的挂柱（76），所述顶板（73）的上表面中心固定有连接柱（72），且连接柱（72）的上端固定有连接套（71）。

8.根据权利要求1所述的一种镀膜装置的转盘机构，其特征在于：所述活动外壳（1）的内侧底面开设有固定槽（110），且固定槽（110）的内侧固定安装有轴承（120）。

说明书

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一种镀膜装置的转盘机构

技术领域

本申请涉及镀膜装置的技术领域，尤其是涉及一种镀膜装置的转盘机构。

背景技术

真空镀膜设备，主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种，而真空镀膜设备在进行镀膜时需要将镀膜件放置在料架上，然后将料架挂在转盘机构上，从而则可对镀膜件进行镀膜加工。

公告号为CN209702841U的中国专利，其公开了一种真空镀膜设备，包括真空室、转盘、蒸镀组件和支撑杆，蒸镀组件包括正电极杆、负电极杆、正电极条、负电极条和电热丝，正电极条呈上下间隔分布在正电极杆上，上下相邻的两根正电极条呈十字交叉设置，负电极条固定在负电极杆上并与正电极条一一对应设置，电热丝连接在对应设置的正电极条与负电极条的两端；支撑杆转动安装在转盘上，支撑杆上设置有用于固定镀膜件的固定结构。本实