滚筒式电子元件焙烧炉,电子元器件高温热解回转窑.docVIP

滚筒式电子元件焙烧炉,电子元器件高温热解回转窑.doc

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一、滚筒式电子元件焙烧炉,电子元器件高温热解回转窑概述

滚筒式电子元件焙烧炉是一种专用于电子元件、陶瓷材料、磁性材料、半导体材料等进行高温热处理的工业设备。其核心结构为旋转滚筒,物料在滚筒内随其旋转而不断翻动,受热均匀,适用于脱脂、烧结、还原、活化、焙烧、热解等多种高温工艺。

该设备广泛应用于:

电子陶瓷(如压电陶瓷、介电陶瓷)

磁性材料(如铁氧体、软磁合金)

半导体材料(如氧化锌、氧化锡)

新能源材料(如锂电正极材料、导电浆料)

电子浆料(如银浆、铜浆、镍浆)

二、滚筒式电子元件焙烧炉,电子元器件高温热解回转窑设备结构组成

1.?滚筒结构

材质:高纯氧化铝(Al?O?≥99%)、碳化硅(SiC)或石墨坩埚

结构形式:卧式旋转滚筒,倾斜角度一般为1°~4°

长度与直径:根据产能设计,常见长度5~20米,直径0.8~2米

内衬材料:高纯氧化铝砖、碳化硅砖或陶瓷纤维,耐温可达1600℃

2.?加热系统

加热方式:电加热(硅碳棒、硅钼棒、石墨加热体)、燃气加热(如天然气、液化气)

温度范围:600℃~1600℃(视物料需求)

控温精度:±5℃~±10℃

加热区段:3~5段分区控温,实现梯度升温

热效率:≥80%

3.?传动系统

驱动方式:变频电机+齿轮传动,转速可调(0.1~5rpm)

支撑结构:托轮+挡轮系统,保证滚筒稳定运行

密封设计:进料端与出料端采用气密结构,防止空气进入

4.?气氛控制系统

可控气氛:空气、氧气、氮气(N?)、氩气(Ar)、氢气(H?)、CO?等

作用:

控制氧化/还原反应

促进晶相转变(如α-Fe?O?→Fe?O?)

抑制杂质反应,提高纯度

气体流量控制:0~50L/min可调

气密性设计:防止空气进入影响产品质量

5.?进料与出料系统

进料方式:螺旋进料、气动输送或人工装料

出料方式:自动出料+冷却系统(惰性气体保护冷却)

连续化生产:可配备自动称重、计量与控制系统

6.?废气处理系统

组成:

冷凝回收装置(回收挥发性杂质)

活性炭吸附塔或RTO焚烧系统

尾气排放符合《大气污染物综合排放标准》(GB16297-1996)

三、滚筒式电子元件焙烧炉,电子元器件高温热解回转窑工作原理

滚筒式电子元件焙烧炉通过滚筒旋转带动物料翻动,使物料在滚筒内均匀受热,避免局部过热或冷点。加热方式为外部加热,热量通过滚筒壁传入物料,实现间接加热,避免物料与火焰或烟气直接接触,从而:

避免污染(如金属杂质、粉尘)

提高产品纯度和一致性

适用于对气氛和清洁度要求高的高端电子材料生产

四、典型工艺流程

1.?原料预处理

粉碎筛分:控制粒径(如D50=1~5μm)

预干燥:去除水分(含水率<1%)

预混处理:如添加粘结剂、包覆剂等

2.?进料阶段

通过螺旋输送或气动输送系统连续进料

物料进入滚筒后随滚筒旋转缓慢前进

3.?加热焙烧阶段

升温速率:5~15℃/mi

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