光谱的产生及意义.pptxVIP

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光譜的產生及意義報告人:忠信科技陳忠詰

報告大綱壹:“光”的特性。貳:光譜產生的原理。參:光譜的分類。肆:吸收光譜的介紹。伍:光學光譜的介紹。陸:抗反射光譜的介紹。柒:抗反射光譜的變動。

壹:“光”的特性粒子說(能量特性):能量固定;01直線前進;02波動說(傳遞特性):透射與反射;03繞射;04干射;05頻率及振幅決定能量大小06停止前進,光線即消失,能量轉成熱量;07振幅相抵消,光線即減弱(消失),能量轉成熱量;08

圖5.1電磁波之分類與範圍

貳:光譜產生的原理

參:光譜的分類吸收光譜。光學光譜

肆:吸收光譜的介紹產生原因:分子內原子的相對運動所需的能量固定(E);E=h×ν=h×C∕λ(波長);相對運動的型態:旋轉、振動、扭曲;不同運動方式,不同能量,不同波長=>光譜

強度決定因素:成份濃度(或含量)會產生吸收光譜的物質:分子結構有機物;液體:水、溶劑、氨水等;氣體:二氧化碳、氧氣、氮氣等;不會產生吸收光譜的物質:金屬;金屬氧化物:二氧化鈦、二氧化矽;玻璃

伍:光學光譜的介紹產生原理:光線相互“干射”形成。01產生物質:“透光”、“薄膜”介質“組合”02光譜形狀及光線強度決定因素:03介質折射率:本身特性及含量;04結晶型態相對折射率;05厚度;06相對折射率;07反射率。08

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二次干射玻璃SiO2空氣TiO2反射单击此处输入你的正文一次干射

干射原理一:基本原理:干射效應效應要能發揮:δ1→2×H2=δ2→3×H3±(λ∕2)(δ:相對折射率;H:厚度)二:δ的取決因素:本身的結晶性。本身的純度。相對的比值。

以測試波長:580nm,SIO2(δ=1.40)厚度:180nm,TiO2(δ=2.89)厚度:130nm計δ1→2=1.40;δ1→2×H2=252=290-38δ2→3=2.07;δ2→3×H3×2=539=580-41202X——202X年度一次干射二次干射单击此处添加副标题文艺清新工作总结

一次干射(nm)厚度(nm)速度(SD)二次干射(nm)厚度(nm)速度(TiO2)25018078054013032532880245328235—25070110540385—220157520510123300

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陸:抗反射光譜的介紹。為何需要“抗反射”?需要甚麼樣的“抗反射光譜”。膜層設計。色澤的比較。

一:為何需要“抗反射”?LCD的背光光源強度低:避免外部光線的投影:電視螢幕。儀表。光學系統。

二:需要甚麼樣的“抗反射光譜”

白熱燈泡光波長分佈圖

日光燈管光波長分佈圖

半螺旋型省電燈泡光波長分佈圖

抗反射光譜膜層設計一:高折射介質優先設定:有無限多組。二:高折射介質厚度設定:λ∕4~λ∕5:變異小三:儘可能薄:降低反射(前提:製程安定)。四:不同折射率的二氧化鈦,不同厚度:附註説明:折射率低,無法有效抑制長波長(紅光)。折射率高,反射率亦高,偏藍光。生產方式溶劑鍍膜蒸鍍水性鍍膜折射率2.22.42.7設計膜厚130119106

四:色澤的比較比較項目紫紅色深藍色蒸鍍○*溶劑型溶膠○*水性溶膠○○習慣性○△質感○△對眼睛的負荷*○透光性*○

柒:抗反射光譜的變動變動分類:鍍膜過程光譜變動(同一片)。長期生產過程的變動(不同片)。溶膠合成過程的變動。

鍍膜過程光譜變動原因厚度變動;孔隙度變動;影響δ(相對折射率)結晶型態變動。

溶劑型溶膠各種成份的比重及折射率:類別比重折射率Ti(OR)40.971.03Ti(OR)3(OH)1.08-

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