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先进光电子器件制造工艺及其性能优化研究
目录
先进光电子器件制造工艺及其性能优化研究（1）．．．．．．．．．．．．．．．．3
文档综述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．3
1.1研究背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．4
1.2目的和意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．5
光电子器件概述．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．6
2.1定义与分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．8
2.2基本原理．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
先进光电子器件制造技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．10
3.1设备与工艺流程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．11
3.2生产线布局设计．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．12
3.3制造过程控制．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．13
光电子器件制造工艺．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．16
4.1激光刻蚀工艺．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
4.2薄膜沉积技术．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．18
4.3成型加工方法．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．20
性能优化策略．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．22
5.1材料选择与掺杂．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．23
5.2工艺参数调整．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．25
5.3测试与评估．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．27
应用实例分析．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．28
6.1实际案例介绍．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
6.2效果比较与总结．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．29
结论与展望．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．30
7.1主要结论．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
7.2研究不足．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．33
7.3未来方向与建议．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．34
先进光电子器件制造工艺及其性能优化研究（2）．．．．．．．．．．．．．．．36
课题背景．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
研究意义．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．36
国内外研究现状．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．37
研究目标和内容．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．41
光电子器件的基本概念．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．42
典型光电子器件分类．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
光电子器件的发展历程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．43
光电子器件的应用领域．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．45
光电子器件的材料选择．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．46
基本制造工艺流程．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．48
工艺参数对光电子器件性能的影响．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．．49
制
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