[优选文档]半导体存储器PPT.pptVIP

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半导体存储器;4.1.1存储器的分类:外存和内存

按存储器载体分类

(1)磁介质存储器

速度较慢,一般用作外存。如磁盘、磁带等。

(2)半导体存储器

容量大,速度快,体积小,功耗低,广泛用于大、中、小及微型机中作内存

(3)光存储器

速度快,但需复杂的硬件,主要用作外存;4.1.2半导体存储器的分类;4.1.3半导体存储器的主要技术指标

1.存储容量——指每个存储器芯片所能存储的二进制数的位数。通常以单元数×数据线位数表示。

2114:1K?4

6264:1K?8=1KB,1MB=210KB

2.存取速度

用存取时间来衡量,存取时间指从CPU给出有效的存储器地址到存储器给出有效数据所需要的时间。

存取时间:超高速存储器:小于20ns;中速:100~200ns;低速:300ns以上;4.2随机读写存储器(RAM)

4.2.1静态RAM

1.静态RAM的基本存储电路

MOS型静态RAM的基本存储单元通常由六个MOS场效应晶体管构成,只要不切断电源,其写入的数据可长期保留,且不需动态刷新。;1)写入过程

选择线为高电平,T5、T6导通

写入‘1’:则I/O=1,I/O#=0,它们经T5、T6加到A、B点,使T1截止,T2导通,使A=1,B=0,进入“1”状态。

写入‘0’:I/O线为“0”,I/O#上为“1”,使得T1导通,T2截止,达到“0”稳态。;2)读出过程:

经地址译码后选中此电路(单元),即选择线上为高电平。这时,由于A与I/O线通,B与I/O#线通,所以I/O线上的状态即要读出的数据。

这种电路,当读出之后,原存储的数据完好不变,称为非破坏性读出。;2.静态RAM的结构

将多个存储单元按一定方式排列起来,就组成了一个静态RAM存储器。

;典型的SRAM6116:2KB,A0~A10,D0~D7形成128*16*8(每8列组成看作一个整体操作)的阵列;典型的SRAM芯片6264(8KB);4.2.2动态RAM

1.动态RAM存储电路;2.动态RAM举例Intel2164A

容量:64K*1bit

引脚:A0~A7,D,RAS,CAS

由行地址选通信号RAS,把先送来的8位地址送至行地址锁存器,由随后出现的列地址选通信号CAS把后送来的8位地址送至列地址锁存器。;3.高集成度DRAM

SDRAM同步动态随机访问存储器

(1)DDRSDRAM双倍率SDRAM

(2)DDR24倍速

(3)DDR3

(4)RDRAM突发存取的高速DRAM

4.内存条

(1)72引脚的DRAM-SIMM

(2)168引脚的SDRAM-DIMM

(3)184引脚的DDR-SDRAM-DIMM;高集成度DRAM和内存条;4.2.3双口RAM

多处理机应用系统中的相互通信

(1)双端口RAM:用于高速共享数据缓冲器系统中,公共全局存储器

(2)VRAM:图形图像显示中,加速视频图像处理

(3)FIFO:用于高速通信系统、图像图形处理、DSP和数据采集系统以及准周期性突发信息缓冲系统的先进先出存储器

(4)MPRAM:多CPU系统的共享存储器。;2.双端口RAM举例

CY7C130/131/140/141

1K*8bit高速双端口SRAM

A0~A9:地址线

I/O0~I/O7:数据线

CE#:片选

OE#:输出允许线

R/W#:读写控制

BUSY#:

INT#:;4.3半导体只读存储器(ROM);4.3.2可编程的只读存储器PROM

只能写入一次。;4.3.3可编程、可擦除的只读存储器EPROM

擦除:用12mW/cm2的紫外线(或X射线)相距3cm,进行照射10~20min,擦除原存信息,成为全1状态。

写入:使用专门的写入器(也叫编程器)用加电压的手段使要存入“0”的那些存储位进行写“0”,而对要存“1”的存储位不加电压,仍保存原有的“1”代码。

;常用的EPROM:Intel2716(2KX8),2732(4KB),2764(8KB),27128(16KB),27256(32KB)

典型EPROM2764A芯片介绍

;11.5~12.5V;图4.152764A编程时的波形;4.3.3电可改写的、可重编程的只读存储器EEPROM

擦除时让电流只通过指定的存储单元,把其中一个字(或字节)擦去并改写。;1.并行EEPROM;(1)2816DIP24;(2)2817ADIP28;(3)2864AEEPROMDIP28;(1)二线制串行I2CEEPROM24C01

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