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极端低温环境下SOI器件与电路特性的深度剖析与研究
一、引言
1.1研究背景与意义
随着现代电子技术的飞速发展,半导体器件和电路在各个领域得到了广泛应用,从日常的消费电子设备到高端的航空航天、医疗设备、通信系统以及量子计算等领域,都离不开半导体技术的支持。在众多半导体技术中,绝缘体上硅(Silicon-On-Insulator,SOI)技术凭借其独特的结构和性能优势,成为了研究的热点之一。
SOI技术是在顶层硅和背衬底之间引入一层埋氧化层,形成具有“Si/绝缘层/Si”三层结构的新型硅基半导体材料。这种结构使得SOI器件相较于传统体硅器件具有诸多显著优势,如能排除或减轻体硅
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