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摘要
摘要
光敏保护基(Photolabileprotectinggroup,PPG)是通过化学键合作用将保护基团连
接在发色团上,在光照条件下可释放保护基团。当保护的基团是酸性物质时,这类化合
物又称为光酸(Photoacidgenerator,PAG)。PPG由于其反应条件温和可被广泛应用于
光响应有机材料、光刻和有机合成等领域;PAG在光照射下可释放酸化合物被广泛应用
于光刻胶及聚合环氧单元等体系。Ka
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