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将引起阻挡层的变化?第63页,共94页,星期日,2025年,2月5日正偏时,各电量的变化?PN结正偏时:阻挡层变薄?第64页,共94页,星期日,2025年,2月5日正偏→正向电流多子扩散运动形成的扩散电流内电场被削弱,多子的扩散加强,能够形成较大的扩散电流PN结正偏时:第65页,共94页,星期日,2025年,2月5日外加正偏置电压时载流子浓度分布变化在正向偏置电压的作用下,P区中的多子空穴将源源不断地通过阻挡层注入到N区,成为N区中的非平衡少子,并通过边扩散、边复合,在N区形成非平衡少子的浓度分布曲线第66页,共94页,星期日,2025年,2月5日2.P型半导体所掺入3价元素称为受主杂质,或P型杂质。在本征Ge中掺入微量3价元素后形成的杂质半导体称为P型半导体。第31页,共94页,星期日,2025年,2月5日第32页,共94页,星期日,2025年,2月5日杂质元素能否成为载流子?第33页,共94页,星期日,2025年,2月5日P型半导体中多子→空穴第34页,共94页,星期日,2025年,2月5日P型半导体动态平衡载流子浓度温度一定时,两种载流子的产生和复合将达到平衡。第35页,共94页,星期日,2025年,2月5日P型半导体中,空穴为多子(多数载流子),自由电子为少子(少数载流子)。第36页,共94页,星期日,2025年,2月5日少子浓度随温度的变化是影响半导体器件性能的主要原因。温度上升时,多子浓度几乎不变,而少子浓度则迅速增加。第37页,共94页,星期日,2025年,2月5日1.1.3半导体中的漂移电流和扩散电流漂移电流形成的条件?扩散电流形成的条件?自由电子形成的电流?空穴形成的电流?第38页,共94页,星期日,2025年,2月5日1.漂移电流外加电场时,载流子在电场力的作用下形成定向运动,称为漂移运动,并由此产生电流,称为漂移电流。漂移电流为两种载流子漂移电流之和,方向与外电场一致。第39页,共94页,星期日,2025年,2月5日漂移电流密度电子漂移电流密度:空穴漂移电流密度:(通过单位截面积的漂移电流)第40页,共94页,星期日,2025年,2月5日总的漂移电流密度:?第41页,共94页,星期日,2025年,2月5日2.扩散电流半导体中出现载流子的浓度差时,载流子由高浓度区域向低浓度区域所作的定向运动称为扩散运动,由此形成的电流称为扩散电流。第42页,共94页,星期日,2025年,2月5日扩散电流密度第43页,共94页,星期日,2025年,2月5日迁移率与扩散系数的关系迁移率μ与扩散系数D表示半导体中载流子定向运动的难易程度,影响半导体器件的工作频率。两者之间遵循爱因斯坦关系式:第44页,共94页,星期日,2025年,2月5日1.2PN结1.2.1动态平衡时的PN结同时两类半导体中还存在少量电子空穴对,但其中正负电荷数量相等,呈电中性。室温下,N型半导体中含施主杂质,并电离为自由电子和正离子P型半导体中含受主杂质,并电离为空穴和负离子。第45页,共94页,星期日,2025年,2月5日1.PN结的形成将P型和N型半导体采用特殊工艺制造成半导体,半导体内有一物理界面,界面附近形成一个极薄的特殊区域,称为PN结。第46页,共94页,星期日,2025年,2月5日第47页,共94页,星期日,2025年,2月5日第48页,共94页,星期日,2025年,2月5日空间电荷区第49页,共94页,星期日,2025年,2月5日PN结空间电荷区→耗尽层阻挡层势垒区第50页,共94页,星期日,2025年,2月5日内建电场内电场E:N区P区第51页,共94页,星期日,2025年,2月5日内电场E的影响(1)阻止两区多子的扩散;(2)促使两区少子越结漂移;第52页,共94页,星期日,2025年,2月5日(3)扩散电流减小,漂移电流增加,漂移电流将部分抵消因浓度差产生的使两区多子越结的扩散电流。第53页,共94页,星期日,2025年,2月5日阻挡层宽度与阻挡层两边的电荷量有关?空间电荷区阻挡层第54页,共94页,星期日,2025年,2月5日阻挡层宽度可反映内建电场强度,当PN结交界面处的截面积S一定时,阻挡层越宽,形成的带电离子电荷量越大。阻挡层在P区边的负电荷量为:阻挡层在N区边的正电荷量为:两者的绝对值相等阻挡层两侧的宽度与掺杂浓度的
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