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电应力对不同厚度锆掺杂氧化铪铁电薄膜可靠性影响研究
一、引言
随着微电子技术的快速发展，铁电薄膜因其独特的电性能和物理特性在非易失性存储器、传感器等领域得到了广泛应用。锆掺杂氧化铪（HfO2）铁电薄膜因其优异的性能而备受关注。然而，在薄膜的实际应用中，电应力对薄膜的可靠性产生了重要影响。本文旨在研究不同厚度锆掺杂氧化铪铁电薄膜在电应力作用下的可靠性变化，为薄膜的优化设计和应用提供理论支持。
二、研究方法
本研究采用不同厚度的锆掺杂氧化铪铁电薄膜作为研究对象，通过施加电应力，观察薄膜的电性能和物理特性的变化。具体研究方法如下：
1.制备不同厚度的锆掺杂氧化铪铁电薄膜样品。
2.对样品施加不同
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