变温霍尔效应北京师范大学.docVIP

MACROBUTTONMTEditEquationSection2SEQMTEqn\r\hSEQMTSec\h变温霍耳效应

指导老师：王亚非

【摘要】：本实验我们研究了样品（锑化铟）的霍尔系数随温度的变化情况。利用液氮控制样品的温度，通过测量不同温度下的霍尔电压来计算出变温情况下的霍尔系数，画出温度80-300k范围内样品的曲线来研究禁带宽度、载流子浓度、迁移率本实验采用范德堡法，通过控温的方式测量了碲镉汞单晶样品的霍耳电压、副效应电压以及霍耳系数随温度的变化。

【关键词】：霍尔效应禁带宽度迁移率半导体范德堡法

一、引言

1879年，霍尔在研究通有电流的导体在磁场中受力的情况时，发现在垂直于磁场和电流的方向上产生了电动势，这个电磁效应称为“霍尔效应”。在半导体材料中，霍尔效应比在金属中大几个数量级，引起人们对它的深入研究。霍尔效应的研究在半导体理论的发展中起了重要的推动作用，直到现在，霍尔效应的测量仍是研究半导体性质的重要实验方法。利用霍尔效应，可以确定半导体的导电类型和载流子浓度，利用霍尔系数和电导率的联合测量，可以用来研究半导体的导电机构(本征导电和杂质导电)和散射机构(晶格散射和杂质散射)，进一步确定半导体的迁移率、禁带宽度、杂质电离能等基本参数。测量霍尔系数随温度的变化，可以确定半导体的禁带宽度、杂质电离能及迁移率的温度特性。根据霍尔效应原理制成的霍尔器件，可用于磁场和功率测量，也可制成开关元件，在自动控制和信息处理等方面有着广泛的应用。

二、实验原理

1、半导体内的载流子

根据半导体导电理论，半导体内载流子的产生有两种不同的机制：本征激发和杂质电离。

(1)本征激发:在本征半导体中的电子-空穴对的产生过程中，每产生一个电子，同时也产生一个空穴，所以，电子和空穴密度保持相等，即，称为本征载流子密度。本征载流子密度是指由半导体本身提供载流子，不受外来掺杂的影响，这种载流子的产生过程叫做本征激发。

(2)杂质电离:绝大部分的半导体材料都含有一定量的浅杂质，它们在常温下的导电性能，主要由浅杂质决定。杂质电离过程产生一个空穴所需能量为杂质电离能，相应的能级称为受主能级，把这种能够接受电子变为负离子的杂质称为受主杂质，这种由受主杂质电离提供空穴导电的半导体叫做P型半导体，如图2所示。当杂质电离能比禁带宽度小得多，这个杂质能级处于禁带之中，这个能级称为施主能级，把这种向半导体提供一个自由电子而本身成为正离子的杂质称为施主杂质，这种由施主杂质电离提供电子导电的半导体叫做N型半导体，如图3所示。

2、载流子的电导率

在一般电场情况下，半导体导电也服从欧姆定律，电流密度与电场成正比：

由于半导体可以同时又电子和空穴，而且他们的浓度随样品不同和温度的变化，可以有很大的变化。从理论可知，电导率与导电类型和载流子浓度有关，当混合导电时

其中和分别表示电子和空穴的浓度，为电子电荷，和分别为电子和空穴的迁移率。图4为半导体电导率随温度变化的规律。

3、霍耳效应

(1)霍耳效应

霍耳，并加一磁场垂直于电流，则在样品的两侧产生一个霍耳电位差：

(1)

与样品厚度成反比，与磁感应强度和电流图4霍耳效应示意图

成正比。比例系数叫做霍耳系数。

(2)一种载流子导电的霍耳系数

型半导体：(2)

型半导体：(3)

式中和分别是电子和空穴的电导迁移率，为霍耳迁移率，，它可以通过及计算得到。

(3)两种载流子导电的霍耳系数

在磁场作用下，电子和空穴本来都朝同一边积累，霍耳电场的作用是使它们中一个加强，另一个减弱，这样，使横向的电子流和空穴流大小相等，由于它们的电荷相反，所以横向的总电流为零。假设载流子服从经典的统计规律，在球形等能面，只考虑晶格散射及弱磁场的条件下，对于电子和空穴混合导电的半导体其中（）：

（4）

(4)P型半导体的变温霍耳系数

半导体内载流子的产生存在两种不同的机制：杂质电离和本征激发。因为两者需要的激发能不同，取决于所处的温度，因而霍尔系数将随温度的变化而变化。下面以P型半导体为例分四个温度范围讨论-T之间的关系。曲线如图5所示，此曲线包括以下四个部分：

1）杂质电离饱和区，所有的杂质都已经电离，载流子浓度保持不变。P型半导体中pn，在这个区域内，0。

2）温度逐渐升高时，价带上的电子开始激发到导带，由于电子迁移率大于空穴迁移率，b1，当温度升高到时，=0，如果取对数，就出现了图5中标有“b”的一段。

3）当温度再升高时，更多的电子从价带激发到导带，而使，随后将会达到一个极值。此时，价带的空穴数，可得到