JGP-500a型磁控溅射沉积系统说明书.docxVIP

中国科学院沈阳科学仪器研制中心有限公司SKYTechnologyDevelopmentCo.,Ltd.ChineseAcademyofSciences国家真空仪器装置工程技术研究中心StateEngineeringResearchCenterofVacuumInstrumentandDevice

JGP-500a型磁控溅射沉积系统

用户手册/2008

WW

前言：

首先感谢购买我们的设备，本着对您负责的精神，并为了确保给您提供最优质的售后服务，特别为您准备了本手册，请您耐心读取相关信息。

您的义务

请您在使用过程中，将发生故障的操作步骤填写在page30用户反馈问题清单.中，我们将参考此表内容尽我们最大的能力在最短的时间内完成维修。

如何使用本手册

如果您是初次使用该设备，那么您需要通读用户手册。如果您是一位有经验的用户，则可以通过目录查找相关信息。

本手册涉及的字体及符号说明：

字体的大小直接反应父、子关系，符号说明见下表：

符号

指示性说明

代表意义

描述性说明

没有先后顺序之分，是比口和■高一级目录

详细描述性说明

没有先后顺序之分

详细描述性说明

有先后顺序之分

有利于深刻认识系统，并且可以避免不必要的故障发生

提示性说明

警告性说明

必须严格遵守的内容，否则会发生严重事故

目录

绪言…………………………1

、系统简介1-8

1、概述

2、工作原理以及技术指标2

工作原理2

技术指标2

3、系统主要组成3

溅射真空室组件…3

上盖组件4

真空获得和工作气路组件5

安装机台架组件7

4、设备的安装7

安装尺寸7

配套设施…8

二、系统主要机械结构简介8-11

1、磁控溅射靶组件8

2、六基片加热公转台组件9

转盘加热炉组件11

3、基片挡板组件11

4、单基片加热台组件12

三、操作规程…………14-18

1、开机前准备工作14

2、开机(大气状态下泵抽真空)