曝光原理与曝光机介绍(高启清).pptVIP

手動散射光曝光機線路曝光機UVE-5K5KW毛細燈有效範圍:740x610均勻度:85%Mylar對玻璃雙檯框人機界面操作檯框獨立能量控制故障點顯示檯面自動電磁鎖真空度不足時不曝光5KW曝光機燈管水套結構5KW曝光機定期保養項目防焊曝光機UVE-7K7KW金屬鹵化物燈有效範圍:810x610均勻度:85%Mylar對玻璃雙檯框人機界面操作檯框獨立能量控制故障點顯示檯面自動電磁鎖真空度不足時不曝光7KW曝光機燈管水套結構7KW曝光機定期保養項目手動曝光機操作畫面平行光系統散射光對曝光影響平行半角與斜射角1.1其實就是線路阻劑形成方式的演進1.2以傳統的印刷方式，應用熱固型或UV硬化型油墨，可以製作8mil的線路。1.3因為線路愈來愈細，轉為應用感光光阻經過UV曝光來形成，乾膜也開始在PCB廠內大量使用。1.4當線路等級提昇到4mil以下時，為了得到更好的線路品質，對曝光光源的品質要求提高，這時平行光曝光便成為不可或缺的關鍵設備。1.5而今天在製作等精密基板時，大排板的一次曝光面臨到不易控制全板線路品質一致的瓶頸，原本極為昂貴的雷射直接成像(LDI)，成為一個可行的解決方案。1.1要求底片繪製精度，保存方法，清潔管理等1.2要求附著力夠大不在顯像蝕刻電鍍等製程中剝落1.3側壁(SideWall)直立→半角、斜射角1.4殘足(Foot)要短，DryFilm太厚或能量不足會2.1可區分為兩大類：乾膜及濕膜3.1能量高光阻聚合較完全，附著力(Adhesion)較佳抗化性也好，但OffContact發生時，因斜射光量增加曝光檯面均勻度線路愈細時，因其線寬公差要求更嚴格，需要平行光曝光需要愈精準的曝光能量，也要求愈高的均勻度1.1壓膜機追求最佳的乾膜與銅面服貼性(Conformity)1.2貼合效果與四大因素有關：即預熱、滾輪溫度、壓力及壓膜速度2.1預熱目的在底材在壓膜候3.1當3.2也就是壓完一片板後熱壓輪溫度會下降，能否在下一片板熱壓前將損失的熱量補回的能力。牽涉到熱壓輪導熱性及加熱方式4.1壓痕板中央壓力最小4.2為了使板面在熱壓時壓力平均可使用如CrownedRoller形熱壓輪，在內層壓膜時就很適合。5.1速度太快時，銅面凹陷填覆力變差5.2速度慢時雖然但如果太慢時不但效率降低，Tenting也容易破。6.1線路細到2mil時光乾膜上Mylar及光阻的厚度就使SideWall，必需使用更薄的乾膜。但光阻薄時在銅面上的填覆性變差，要應用如再壓或CrownedRoller來加強貼膜效果。7.12mil(0.05mm)ThinCore薄板也是壓膜機機構上一大挑戰8.1當線路製作無塵室內機台的產塵量9.1為了也可採用杜邦專利的濕壓法壓膜機要配合不同的乾膜，板厚，線路粗細等因素調整操作參數，才能得到最佳的貼合效果。電路板曝光所使用的大面積平行光系統，是應用拋物面反射的原理，首先使用橢圓集光器聚集由汞氙短弧燈點光源所發出的光線集光後所產生的光柱，經冷光鏡反射去除掉大部分紅外線及可見光的熱能後再使用光學積光器修正並消除光柱中角度過大的光線，使成為平行反射鏡焦點上的虛擬點光源經平行反射鏡反射後照射到曝光檯面上的UV光就是平行光1.1有別於散射光曝光所使用的線型燈管，平行光曝光使用超高壓的水銀短弧燈當做UV光源1.2短弧燈陰極陽極間距只有7.5mm，可以視為一個點光源2.1在光譜分佈中，注意365nm(奈米)這個能量Peak，也就是通稱的I-line光譜線。光阻聚合就是利用這個UV-A波段的能量，平行光光路系統上各個光學元件都要儘量提高這個波長光的穿透率及反射率，才能在曝光照射面上得到更多的有效能量2.2綠漆曝光使用金屬鹵化物燈(MetalHalide)，依綠漆的不同，其中添加物會加強365nm或420nm波段的燈管在燈管使用的5Kw能源中，只有1~2%可用UV能量到達光阻，其餘大課題半角與斜射角如何提高365nm波段的傳輸效率是重要課題細線路曝光均勻度對位以大面積曝光而言，考慮底片的特性，要製作2mil的細線路，必須將曝光檯面的溫度控制在2?C以內，濕度控制在5%以內。為了克服漲縮問題，金屬及玻璃底片也被導入PCB曝光，但以玻璃底片20X于Mylar底片的曝光成本而言，是有其困難性除溫濕度的控制外，機台內無塵度的掌握傾向密閉空間的正壓設計，並包含靜電消除裝置如