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光刻胶项目投资计划与经济效益分析

一、项目背景

当前时期，发展环境和形势将发生深刻的变化。全球经济处于后

危机时代，世界经济和贸易进入恢复性增长期，新一轮科技革命带来

新一轮产业革命，世界多极化、经济全球化、文化多样化、社会信息

化深入发展。我国经济发展处于增速换档、结构升级和动力转换的新

常态，发展速度由高速转向中高速，发展方式从规模型转向质量效益

型，发展动力由要素投入转向创新驱动。同时，国家宏观调控由传统

强化需求端作用转向供需两端同时发力，在继续扩大投资、消费、出

口有效需求的同时，加快推进供给侧结构性改革，通过提高土地、资

源、资本、创新等全要素的优化配置，以高质量的供给满足市场需求

或引导有效需求，建立供需匹配、可持续发展的新经济结构，推动经

济提质增效。总体判断，当前时期发展面临难得的机遇：一是地区建

设的机遇。未来五年，地区伴随基础设施的完善和入驻企业的投产，

产业集聚效益逐步发挥，新增产能不断释放，将逐步形成全市经济发

展的重要增长极。二是政策平台的机遇。“十二五”时期当地争取到

的国家级新区和众多产业转型、科技创新、基础设施建设、节能减排、

生态环境、社会事业等方面的政策支持和资金支持将在当前时期发挥

效益，成为经济社会发展的强大支撑。三是创新驱动的机遇。创新驱

动将成为推动经济社会持续健康发展的动力源泉，随着科技创新改革

试验区建设的扎实推进，丰富的科技资源和人才优势必将高效转化为

发展的新动能，战略性新兴产业、现代服务业、非公有制经济、中小

企业必将迎来一个大的发展机遇，大众创业、万众创新必将带来新的

发展动力和活力。

同时，也清醒地看到，地区的发展也面临诸多困难和挑战：一是

产业布局不均衡。二是一产、二产、三产内部结构不尽合理。工业中

石油化工、有色冶金等传统产业比重较大，能源消耗较高、污染排放

较大，战略性新兴产业和高新技术产业比重低、规模小；服务业以传

统业态为主，现代服务业特别是生产性服务业发展滞后；现代农业规

模小，加工转化水平低，增值链条短。三是自主创新能力不强。创新

体系不完善，创新内生动力不足，科技成果转化率不高。四是城市建

管水平较低。城市建设和管理相对滞后，支撑发展的综合承载力不强，

尤其是城市重大基础设施欠账大，畅交通、治污染任务艰巨，实现城

市科学高效管理任重道远。五是民生保障能力有待于提高。教育、卫

生、文化旅游等公共服务设施相对薄弱，基本公共服务保障水平较低，

城乡二元结构矛盾依然存在，城乡居民收入差距较大。这些问题和矛

盾必须在当前下大力气加以解决。

全球光刻胶市场集中度高

光刻胶又称光致抗蚀剂，是由光引发剂（包括光增感剂、光致产

酸剂）、光刻胶树脂、单体（活性稀释剂）、溶剂和其他助剂组成的

对光敏感的混合液体，利用光化学反应经曝光、显影、刻蚀等光刻工

艺将所需要的微细图形从掩模版转移到待加工基片上的图形转移介质。

光刻胶被广泛应用于光电信息产业的微细图形线路的加工制作，

是微细加工技术的关键性材料。按应用领域分类，光刻胶可分为PCB

光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶及其他。2017年，全球光刻胶下

游应用较为均衡，PCB光刻胶、LCD光刻胶、半导体光刻胶及其他占比

基本都在25%左右。

从以上概念及应用可知，光刻胶用于微小图形的加工，生产工艺

复杂，技术壁垒较高。其主要技术参数包括分辨率、对比度、敏感度，

此外还有粘滞性黏度、粘附性等。其中分辨率描述形成的关键尺寸；

对比度描述光刻胶从曝光区到非曝光区的陡度；敏感度为光刻胶上产

生一个良好的图形所需一定波长光的最小能量值。诸多技术参数限制

构成了光刻胶的技术壁垒。

同时，光刻胶质量直接影响下游产品的质量，下游企业对光刻胶

供货企业的质量及供货能力非常重视，通常采取认证采购的商业模式。

伴随着高的采购成本与认证成本，光刻胶生产厂家与下游企业通常会

形成较为稳定的合作，这对新供应商涉足光刻胶行业设置了准入壁垒。

由于极高的行业壁垒，全球光刻胶行业呈现寡头垄断格局，长年

被日本、欧美专业公司垄断。目前前五大厂商占据了全球光刻胶市场

87%的份额，行业集中度较高。其中，日本JSR、东京应化、日本信越

与富士电子材料市占率加和达到72%。

细分领域来看，在PCB光刻胶市场，PCB干膜光刻胶厂家主要有7

家，分别为台湾长兴化学、台湾长春化工、日本旭化成、日本日立化

成、美国杜邦、韩国KOLON、意大利莫顿公司，其中长兴化学、旭化成、

日立化成三家所