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篇幅有限，您可能想要尝试更简洁的方式概述文章以下是您希望概述的文章部分标题超真空磁控溅射镀膜系统方案简介本文详细描述了一种高效低成本的超高真空磁控溅射镀膜系统方案它采用了先进的磁控溅射技术和离子束关心清洗技术，主要用于开发纳米级多层功能膜以及复合膜技术特点1综合了单室结构和多室结构的设计，能够实现高效的空间分布和空间转换2采用可调节的真空环境和高精度的实验设备，确保了系统的稳定性3提供了多种离子束处理工艺，可以根据实验需求选择合适的离
、超高真空磁控溅射镀膜系统方案
1、根本构造与组成
本系统为单室构造的超高真空多功能磁控溅射镀膜与离子束关心清洗系统，可用于开发纳米级的单层、多层功能膜及复合膜---各种硬质膜、金属膜、合金膜、介质膜等。
系统主要由溅射室、磁控靶、Kaufman清洗离子枪及电源、可公转可自转可加热样品台、泵抽系统、真空测量系统、气路系统、电控系统、断水报警系统和微机掌握镀层系统等组成。
2、主要技术性能指标
真空室构造及尺寸
磁控溅射室：约①560X45Qmm〕,为筒形立式全不锈钢构造，外外表喷丸亚光处理。上盖电动提升，前面与侧面各装一个①100和①63的封接观看窗，两个CF
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