超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术.docx

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2024-05-27 发布于天津
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超净高纯试剂是一种用于精密制备集成电路芯片的重要试剂其生产主要包括原材料的选择成分的提取纯化以及生产工艺的优化等步骤目前，该试剂主要用于制造硅片电子元件等，对于器件的精度和可靠性有着重要的影响超净高纯试剂的发展也带动了相关行业的进步，但同时也带来了一系列的技术挑战在未来，超净高纯试剂的研究和开发将更加注重绿色环保和智能化水平的提升

超净高纯试剂的现状、应用、制备及配套技术

超净高纯试剂的应用

湿法清洗

超净高纯试剂的主要用途,一是用于基片在涂胶前的湿法清洗,二是用于在光刻过程中的蚀

刻及最终的去胶,三是用于硅片本身制作过程中的清洗。

硅圆片在进展工艺加工过程中,常常会被不同的杂质所沾污,这些杂质的沾污将导致IC的产

率下降大约50%。为了获得高质量、高产率的集成电路芯片,必需将这些沾污物去除干净。有关沾

污类型、来源和常用清洗试剂见表2。

湿法蚀刻

湿法蚀刻是指借助于化学反响从硅圆片的外表去除固体物质的过程。它可发生在全部硅圆片

外表或局部未被掩膜保护的外表上,其结果是导

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