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本申请提供一种薄膜沉积方法和薄膜沉积设备，通过测量第一衬底的薄膜厚度，得到厚度最大位置和厚度最小位置，并且计算得到厚度最大位置与基线的第一夹角，厚度最小位置与基线的第二夹角，利用第一夹角与第二夹角计算出厚度最大位置与厚度最小位置在衬底旋转工作角度前的位置差距，作为第二衬底进行薄膜沉积工序的衬底转向修正角度。第二衬底先以薄膜沉积工序沉积目标薄膜厚度的一部分材料后，然后以第一旋转轴旋转工作角度，再以第二旋转轴转动180度和衬底转向修正角度，使厚度最大位置转动至与进行前半工序时的厚度最小位置重合的位置
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117845181A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202311863794.X
(22)申请日2023.12.29
(71)申请人杭州富芯半导体有限公司
地址3
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