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2024-04-10 发布于四川
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真空镀膜装置.pdf

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本申请公开一种真空镀膜装置，包括反应容器、镀膜伞架、蒸发镀膜机构、溅射镀膜机构和排气机构。反应容器具有真空腔室。反应容器内设有能将基片保持于保持面的镀膜伞架。镀膜伞架围绕一竖直轴线旋转，保持面的直径自上而下线性增大。蒸发镀膜机构和溅射镀膜机构均朝向保持面设置。排气机构包括冷阱组件、容纳腔室、用于连通容纳腔室和真空腔室的连通通道、连通容纳腔室的排气管道、设置在排气管道上的阀体以及连接于排气管道远离容纳腔室一端的第一泵组。冷阱组件包括具有沿水平方向螺旋延伸的冷阱管道的冷阱主体。排气管道的入口位于容纳

(19)国家知识产权局

(12)实用新型专利

(10)授权公告号CN220746057U

(45)授权公告日2024.04.09

(21)申请号202322408281.1

(22)申请日2023.09.05

(73)专利权人安徽其芒光电科