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本发明公开了一种预防永磁体碎片堵塞微电机的制造方法,通过在永磁体表面涂覆聚脲涂层,聚脲涂层由A组分和B组分组成,聚脲涂层的涂覆方法包括有以下步骤:S1:A组分和B组分分别盛放于A容器和B容器中;其中,A组分采用聚天门冬氨酸酯树脂,B组分采用异氰酸酯固化剂;S2:按重量配比将A组分及B组分别输送至配比容器中;S3:利用电动搅拌器将A组分和B组分充分搅拌均匀;S4:将混合后的聚脲材料涂覆于永磁体的表面并形成保护膜。当微电机受到瞬间外部冲击力时,聚脲涂层通过应变率敏感效应迅速发生变形,吸收相应的冲击能
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117844355A
(43)申请公布日2024.04.09
(21)申请号202410029691.1C08G18/64(2006.01)
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