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本发明公开了一种改进氧化限制结构的垂直腔面发射激光器。其包括设置于有源层之上的电流限制结构；所述电流限制结构包括至少一层电流限制层，且至少有一层电流限制层为改进氧化限制层；改进氧化限制层包括中心区域以及环绕所述中心区域的外围区域，所述中心区域为高铝含量AlxGa1‑xAs层，所述外围区域为填充有至少一处修饰结构的铝氧化物层，所述修饰结构为折射率高于铝氧化物的非化学计量比半导体材料或中间具有空气隙的折射率高于铝氧化物的非化学计量比半导体材料。本发明还公开所述改进氧化限制结构的垂直腔面发射激光器的制
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117410826A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311338372.0
(22)申请日2023.10.17
(71)申请人苏州长瑞光电有限公司
地址21
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