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本申请涉及脑机接口领域，尤其涉及一种柔性透明电极的制备方法。方法包括：获取清洁后的硅衬底；在清洁后的硅衬底上依次制备第一光刻胶层、金属牺牲层和柔性电极底层绝缘层；在柔性电极顶层绝缘层的第一区域制备石墨烯；制备第二光刻胶层，并对石墨烯进行刻蚀处理，得到石墨烯电极点；制备第三光刻胶层和金属布线层；制备第四光刻胶层和金属后端焊层；制备金属保护层；依次制备柔性电极顶层绝缘层和绝缘层掩膜；进行刻蚀处理，以使石墨烯电极点和金属后端焊层裸露；进行浸泡、刻蚀处理，得到柔性透明电极。本申请通过结合石墨烯材料制作柔
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117410028A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311347630.1G03F7/16(2006.01)
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