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本发明公开了一种高效气相沉积工艺，以多孔碳材料为基底，以含硅气体、含磷气体、含氮气体、含硫气体、含硼气体、含锂气体为原料气，经分阶段气相沉积后在多孔碳材料孔穴内部沉积纳米颗粒；第一阶段，控制反应器内温度为300～800℃，初始压强为10～100Kpa，通入原料气的流速为2～15L/min；当反应器内压强开始下降时进入下一阶段；第二阶段，将反应器内初始压强调整为5～25Kpa，调整通入原料气的流速为8～50L/min；当反应器内压强开始升高则结束沉积。本发明的沉积工艺可显著提高多孔碳基底的孔结构利
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117403203A
(43)申请公布日2024.01.16
(21)申请号202311246511.7H01M4/583(2010.01)
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