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本发明公开了一种保持多区板式PECVD电极平行的设备,包括:处理室本体和处理室上盖界定薄膜沉积所用的真空环境,真空管路系统藕接到处理室本体,气源输送管路藕接到喷淋电极,喷淋电极通过活动头调节机构藕接到处理室上盖,地电极藕接到处理室本体,喷淋电极和地电极形成一对平行电极板,工件基板经过处理室本体工件通道被输送到喷淋电极和地电极中间位置,升降系统顶升地电极和工件基板,同喷淋电极完全接触形成多个独立放电空间。本发明的优点是:有效控制电极的线性尺寸,可满足大面积PECVD沉积系统,解决甚高频40MHz或
(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN117328042A
(43)申请公布日2024.01.02
(21)申请号202311534826.1
(22)申请日2023.11.17
(71)申请人捷造科技(宁波)有限公司
地址
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